本发明提供能够改善线边缘粗糙度

本发明构思提供了一种基板处理设备

提供了一种基底处理设备。所述基底处理设备包括：支撑板，配置为支撑基底；基体板，在所述支撑板下方；热绝缘层，在所述支撑板与所述基体板之间；接合件，将所述基体板与所述热绝缘层彼此接合；以及密封构件，设置在所述接合件的侧表面周围，以防止对所述...

提供了一种基板处理设备。该基板处理设备包括：被构造成支撑基板的支撑板；在所述支撑板下方的底板；在所述支撑板与所述底板之间的隔热层；和将所述底板与所述隔热层彼此粘结的粘结物，其中，通过使用螺栓将所述隔热层与所述支撑板的下端表面紧密接触。述...

本发明提供综合控制不同种类的运送工具的搬送控制装置以及包括其的物流搬送系统。所述物流搬送系统包括：多个第1搬运装置，配置在半导体制造工厂内，并搬运搬送物；多个第2搬运装置，种类与多个第1搬运装置不同；以及搬送控制装置，控制多个第1搬运装...

本发明涉及一种用于存储物品的设备和用于存储物品的方法，所述设备和所述方法能够以混合两用的方式存储在半导体分配线中传送的至少两类物品，在本发明中，所述设备包括：物品存储架，包括用于以两用的方式存储第一物品或第二物品的两用空间；和可变对准装...

本发明提供一种蚀刻薄膜的方法以及基板处理设备，包括：第一覆液操作，通过形成有薄膜的基板上提供和散布化学溶液以在所述基板上形成所述化学溶液的第一滩液；第一蚀刻操作，使用所述化学溶液在所述基板上部分蚀刻所述薄膜；第一润洗操作，将所述化学溶液...

一种衬底处理装置，包括：清洗设备，用于清洗衬底；以及干燥设备，用于使用超临界气体对由清洗设备清洗后的衬底进行干燥，其中，清洗设备包括硫酸清洗室。设备包括硫酸清洗室。设备包括硫酸清洗室。

本发明构思提供一种基板处理装置

本公开提供了用于微型LED显示器的微粒对准装置及粒子对准方法以及微型LED显示器，微粒对准装置包括：玻璃电极，布置在玻璃基板的其上形成有图案的一个表面上；夹持器，支承玻璃基板，并且设置有插置于玻璃基板与夹持器之间的夹持器电极；电阻单元，...

根据本发明的一个方面的衬底支撑装置包括：座板部件，衬底放置在所述座板部件上；轴部件，所述轴部件联接到所述座板部件的下部以支撑所述座板部件；和间隙凸缘部件，所述间隙凸缘部件联接到所述轴部件或所述座板部件，以限定所述轴部件与所述间隙凸缘部件...

公开了一种形成半导体器件方法及用于形成前述器件的衬底处理系统，所述方法包括以下步骤：在一半导体衬底的一后表面上形成至少一个金属催化剂层，在所述半导体衬底上形成至少一个用于电力传输的埋入式电源轨，以至少部分地与所述埋入式电源轨对齐；通过向...

本发明提供气体喷射单元和基板处理装置。本发明一实施例的气体喷射单元，包括：壳体，包括气体流入口和腔体，所述腔体连接到所述气体流入口，并且在一个面上形成有开口；以及气体喷射部，配置在所述腔体内，构成为可以相对于所述腔体改变成多种配置位置，...

提供了一种用于处理基底的设备和一种半导体制造设备，所述用于处理基底的设备包括：处理腔室，配置为提供处理空间；流体供应装置，配置为向所述处理腔室供应超临界流体；流体排放装置，配置为从所述处理腔室排放所述超临界流体；以及控制装置，配置为控制...

本公开提供了一种基板处理设备，以在单个装置中提供对基板的加热和等离子体处理，并且基板处理设备包括：处理容器，在其中容纳基板；支承构件，在处理容器中支承基板；等离子体提供单元，包括在处理容器内生成等离子体的电极；以及微波引入单元，连接到微...

提供一种基底加工装置。所述基底加工装置包括：基底支撑件，配置为支撑基底；加热环，水平地围绕所述基底支撑件；以及边缘环，水平地围绕所述加热环并且配置为覆盖所述加热环的顶表面。顶表面。顶表面。

本发明涉及一种净化处理方法，使用净化处理装置对容器进行净化处理，净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)通过所述气体供应单元以第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体；以及(c)当满足用于变更向所述气体供应...

提供了一种可以轻松且准确地执行光纤的卷绕任务的光源均匀度调节装置。光源均匀度调节装置包括：基板，包括位于其中的多个孔；在基板的一侧上的第一固定部分，用于固定光纤的第一部分；设置在基板的另一侧上的第二固定部分，用于固定光纤的第二部分；以及...

本发明提供了一种防火卷帘控制系统和防火卷帘控制方法，其能够在建筑物中发生火灾的情况下有效地控制防火卷帘。该防火卷帘控制系统可以包含：火灾检测器，其配置为检测火灾爆发且在发生火灾的情况下生成火灾信号；防火卷帘控制器，其配置为将控制信号施加...

本发明提供了抑制显影液和感光膜的不必要的附加反应并防止因附加反应而生成感光膜残留物的基板处理装置及方法