净化处理方法技术

本发明专利技术涉及一种净化处理方法，使用净化处理装置对容器进行净化处理，净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)通过所述气体供应单元以第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体；以及(c)当满足用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件时，通过所述气体供应单元以小于所述第一流量的第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体，用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件是预先设定的时间，所述(c)步骤在以所述第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体后，若经过预先设定的时间，则以所述第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体。体供应端口供应所述净化气体。体供应端口供应所述净化气体。

【技术实现步骤摘要】
净化处理方法
[0001]本申请是申请日为2019年07月10日、申请号为201910622128.4、专利技术名称为“净化处理装置及净化处理方法”的分案申请。


[0002]本专利技术涉及对收纳有对象物的容器进行净化处理的净化处理装置及净化处理方法。

技术介绍

[0003]在半导体装置或显示装置之类的多种电子/电气装置的制造工艺中，使用构成为将晶片、基板、半导体元件等(以下，称为“对象物”)在预定的气氛下保管并对对象物执行预定的处理的储料器。
[0004]储料器具有通过多个隔板划分的多个隔室，对象物以收纳于容器中的状态保管在隔室内部。容器的内部形成预定的环境及气氛，由此，对象物可在预定的环境及气氛下进行处理。
[0005]在这样的过程中，执行向容器的内部供应净化气体并从容器排出净化气体来对容器的内部进行净化处理的过程，由此，可保持容器的内部的一定清洁度。
[0006]在这样的净化处理过程中，重要的是在容器内使净化气体顺畅地循环后将净化气体从容器顺畅地排出。因此，要求能够在容器内使净化气体顺畅地循环后从容器顺畅地排出净化气体的技术开发。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]韩国授权专利第一0
‑
1647923号

技术实现思路

[0010]本专利技术旨在解决上述的以往技术中的技术要求，本专利技术的目的在于提供一种能够向收纳有对象物的容器内部顺畅地供应净化气体并将容器内部的气体向外部顺畅地排出的净化处理装置。<br/>[0011]用于达到上述目的根据本专利技术的实施例的净化处理方法使用净化处理装置对容器进行净化处理，所述净化处理装置包括：支承台，搭载收纳有对象物的所述容器；气体供应端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体供应端口与所述容器的气体流入孔连通；气体排出端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体排出端口与所述容器的气体流出孔连通；以及气体供应单元，与所述气体供应端口连接而向所述气体供应端口供应净化气体，所述净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)通过所述气体供应单元以第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体；以及(c)当满足用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件时，通过所述气体供应单元以小于所述第一流量的第二流量向所述气体供应
端口供应所述净化气体，用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件是预先设定的时间，所述(c)步骤在以所述第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体后，若经过预先设定的时间，则以所述第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体。
[0012]用于达到上述目的根据本专利技术的实施例的净化处理方法使用净化处理装置对容器进行净化处理，所述净化处理装置包括：支承台，搭载收纳有对象物的所述容器；气体供应端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体供应端口与所述容器的气体流入孔连通；气体排出端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体排出端口与所述容器的气体流出孔连通；以及气体供应单元，与所述气体供应端口连接而向所述气体供应端口供应净化气体，所述净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)通过所述气体供应单元以第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体；以及(c)当满足用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件时，通过所述气体供应单元以小于所述第一流量的第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体，用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件是所述容器的内部压力，所述(c)步骤在以所述第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体后，若所述容器的内部压力达到或超过预先设定的压力，则以所述第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体。
[0013]用于达到上述目的根据本专利技术的实施例的净化处理方法使用净化处理装置对容器进行净化处理，所述净化处理装置包括：支承台，搭载收纳有对象物的所述容器；气体供应端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体供应端口与所述容器的气体流入孔连通；气体排出端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体排出端口与所述容器的气体流出孔连通；以及气体供应单元，与所述气体供应端口连接而向所述气体供应端口供应净化气体，所述净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)通过所述气体供应单元以第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体；以及(c)当满足用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件时，通过所述气体供应单元以小于所述第一流量的第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体，用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件是通过所述气体供应端口的所述净化气体的流量，所述(c)步骤在以所述第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体的过程中，若通过所述气体供应端口的所述净化气体的流量发生变化，则以所述第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体。
[0014]用于达到上述目的根据本专利技术的实施例的净化处理方法使用净化处理装置对容器进行净化处理，所述净化处理装置包括：支承台，搭载收纳有对象物的所述容器；多个气体供应端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述多个气体供应端口与所述容器的多个气体流入孔连通；气体排出端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体排出端口与所述容器的气体流出孔连通；以及气体排出管，与所述气体排出端口连接，所述净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)确定要向所述容器内供应的净化气体的流量；(c)不同地设定通过所述多个气体供应端口的所述净化气体的流量来调节所述净化气体的流量或者开启所述多个气体供应端口中的全部或一部分从而调节所述净化气体的流量，以在所述(b)的步骤中确定的流量向所述容器内供应所述净化气体；以及(d)测量所述气体排出管内的所述净化气体的压力，
当所述测量到的压力达到预先设定的压力时，通过所述气体排出管强制排出所述容器内的气体。
[0015]用于达到上述目的根据本专利技术的实施例的净化处理装置可包括：支承台，搭载收纳有对象物的容器；多个气体供应端口，设置于支承台，当容器搭载在支承台上时，多个气体供应端口与容器的多个气体流入孔连通；气体排出端口，设置于支承台，当容器搭载在支承台上时，气体排出端口与容器的气体流出孔连通；气体供应单元，通过多个气体供应端口向容器内供应净化气体；以及，气体排出单元，通过气体排出端口排出容器内的净化气体。
[0016]可以是，在多个气体供应端口分别连接有多个流量开关，单独调节通过多个气体供应端口的净化气体的流量。
[0017]可以是，净化气体的流量基于时间、容器的内部压力、净化气体的当前流量中至少一个来调节。
[0018]根据本专利技术的实施例的净化处理装置可还包括位置检测传感器，位置检测传感器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种净化处理方法，使用净化处理装置对容器进行净化处理，所述净化处理装置包括：支承台，搭载收纳有对象物的所述容器；气体供应端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体供应端口与所述容器的气体流入孔连通；气体排出端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体排出端口与所述容器的气体流出孔连通；以及气体供应单元，与所述气体供应端口连接而向所述气体供应端口供应净化气体，其特征在于，所述净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)通过所述气体供应单元以第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体；以及(c)当满足用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件时，通过所述气体供应单元以小于所述第一流量的第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体，用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件是预先设定的时间，所述(c)步骤在以所述第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体后，若经过预先设定的时间，则以所述第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体。2.一种净化处理方法，使用净化处理装置对容器进行净化处理，所述净化处理装置包括：支承台，搭载收纳有对象物的所述容器；气体供应端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体供应端口与所述容器的气体流入孔连通；气体排出端口，设置于所述支承台，当所述容器搭载在所述支承台上时，所述气体排出端口与所述容器的气体流出孔连通；以及气体供应单元，与所述气体供应端口连接而向所述气体供应端口供应净化气体，其特征在于，所述净化处理方法包括以下步骤：(a)将所述容器搭载到所述支承台上；(b)通过所述气体供应单元以第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体；以及(c)当满足用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件时，通过所述气体供应单元以小于所述第一流量的第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体，用于变更向所述气体供应端口供应的所述净化气体的流量的条件是所述容器的内部压力，所述(c)步骤在以所述第一流量向所述气体供应端口供应所述净化气体后，若所述容器的内部压力达到或超过预先设定的压力，则以所述第二流量向所述气体供应端口供应所述净化气体。3.一种净化处理方法，使用净化处理装置对容器进行净化处理，所述净化处理装置包括：支承台...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔钟锡，蔡在慜，朴成珍，郑然圭，朴重协，金枓封，李秀雄，郑恩知，赵丁寅，李俊昊，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：