本技术涉及一种研磨液供应系统用阀箱，包括研磨液阀箱，研磨液阀箱由阀箱箱体和PTFE模组阀组成，PTFE模组阀安装于阀箱箱体内后侧，阀箱箱体顶端和底端设置有维修窗，阀箱箱体前端密封连接的箱门上装有维修窗把手，阀箱箱体左右两侧均装设有快速连...

本发明涉及一种处理固液混合物的颗粒分离装置，包括内溢流式反应槽、超声波震荡系统、多段金属回收管路以及分段在线式温控系统，超声波震荡系统设置于内溢流式反应槽处，内溢流式反应槽包括内槽中央清洗区、内槽沉降区、外槽溢流区和内溢流进液匀流管，内...

本发明涉及一种半导体制程用电子级化学品清洗桶全自动清洗系统，其清洗区内设置有清洗桶固定支架和瓶盖清洗盒，操作区设有定位机构和拆盖锁盖机构，链板传送带用于将需清洗的桶送入设备内以及将清洗干净的桶运送出，定位机构用于将送进设备内部的清洗桶抱...

本申请涉及一种半导体供液设备，其通过设置至少三个储液罐，至少三个储液罐在沿周向设置的补液区

本发明涉及一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，其通过在主体机构

本申请涉及一种ITO草酸粉末除尘装置，与粉末加工装置的出口连通，包括：液体降尘机构，与粉末加工装置的出口连通，适于将自粉末加工装置出口沉落的粉末打湿以进行降尘处理；以及挤压机构，与液体降尘机构的出口连通，适于将降尘处理后的粉末进行挤压处...

本申请涉及一种除尘设备，包括：粉尘加工机构，适于对目标物进行粉尘加工；挤压机构，设置于粉尘加工机构的下方，适于对掉落的粉末进行挤压处理；喷雾清洗机构，连通粉尘加工机构和挤压机构，适于形成雾气，以将自粉尘加工机构的出口掉落的粉尘打湿，且在...

本申请涉及一种抗气泡高稳定性折光计，其通过折光率测量模块、温控模块及气泡排出模块配合控制药液温度及消除被测量药液的气泡，药液经过形成在疏水单元和亲水单元之间的薄膜状通道时，在薄膜状通道下方亲水单元的作用下，药液下沉聚集在亲水单元的表面，...

本发明属于化学溶液高纯度调配技术领域，且公开了一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置，包括底座，底座上表面的一侧设有调控机构，底座上表面设有多组支撑板。本发明通过使第一进料管内的清洗液和第二进料管的干燥气体交替通过前侧的导管进入到...

本发明属于半导体制造技术领域，且公开了一种用于半导体化学品溶液的吸取装置，包括外壳，外壳内部的下方开设有油腔，外壳的一侧开设有出液道，出液道的内部固定安装有单向阀一，出液道的一端固定安装有间歇供液装置。本发明通过间歇供液装置和供油装置的...

本发明涉及一种管路系统图辅助绘制系统及方法，其系统包括设备布局模块和工艺槽体模块，设备布局模块包括工艺模块点选模块、设备模块点选模块和图框匹配子模块，工艺槽体模块包括工位点选模块、药液配比子模块和混酸/暂存子模块；其方法包括以下步骤：(...

本实用新型涉及一种新型全自动电子级化学品罐充流水线系统，包括箱体以及穿过箱体内前部的电动滚筒线，箱体前侧设置有触摸屏操作面板和充填工位，箱体内后部设置有仪电控制室，仪电控制室侧面设有相机定位显示屏，仪电控制室与相机定位显示屏电连接，箱体...

本实用新型涉及一种新型TMAH显影液再生及浓度管理系统，包括回收桶槽A、回收桶槽B、浓度调整桶槽A和浓度调整桶槽B，回收桶槽A、回收桶槽B顶部进液口分别通过管道连接制程设备、纳滤吸附系统，回收桶槽A、回收桶槽B底部通过管道连接输送泵A、...

本实用新型涉及一种新型蝶形清洗槽盖板，包括驱动气缸、左盖板、右盖板和气管封闭室，驱动气缸左右对称布置，驱动气缸活塞端通过摇臂连接驱动转轴，并带动驱动转轴旋转，驱动转轴与盖板转轴锁紧为一体，左盖板、右盖板分别固定在位于左右两侧的盖板转轴上...

本实用新型涉及一种化学品自动充填设备，包括设备主体，设备主体顶部安装有高效空气过滤器和抽风口，高效空气过滤器与设备主体内部的设备底部回风道形成洁净空气流场，充填区下方设置有滚轮输送线，并通过滚轮输送线对化学品桶进行输送，滚轮输送线由变频...

本实用新型涉及一种定角度选择顺应性晶圆输送机械臂的定位结构，包括大摆臂主轴、大摆臂、小摆臂主轴、小摆臂以及腕部主轴，大摆臂主轴包括大摆臂主轴转轴和大摆臂主轴同步带轮，大摆臂包括大摆臂本体和大摆臂同步带，小摆臂包括小摆臂本体和小摆臂同步带...

本实用新型涉及一种光刻胶混配过滤供应设备，包括设备主体，设备主体顶部安装有高效空气过滤器和排风装置，高效空气过滤器、排风装置与设备底部回风道形成洁净空气流场，设备主体内后部设有两个混合桶槽，两个混合桶槽顶部分别装设有搅拌电机，两个搅拌电...

本实用新型涉及一种200L桶自动化输送线设备，包括滚轮输送线，滚轮输送线与滚轮线动力电机的输出端相连接，滚轮输送线下方布置有平台电子秤，平台电子秤处装设有用于感应200L桶已到达指定点的感应器，感应器通过线路连接自动抱桶旋转机构，自动抱...

本实用新型公开了一种多尺寸晶圆干燥装置，所述干燥装置包括：清洗槽体，其底部设置有液体进出口；连接基槽，所述连接基槽的底部与所述清洗槽体的顶部连通，所述连接基槽的的顶部设置开口，所述连接基槽的顶部外侧设置有滑轨；第一上盖，所述第一上盖滑动...

本实用新型公开了一种加速干燥晶圆槽体，所述槽体包括：主体，所述主体为中空结构，所述主体内设置有用来整体竖直升降晶圆架的升降结构，所述主体的底部设置有液体进出口；第一出气口，所述第一出气口设置在所述主体的上部的一侧下方；第二出气口，所述第...