一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于化学溶液高纯度调配技术领域，且公开了一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置，包括底座，底座上表面的一侧设有调控机构，底座上表面设有多组支撑板。本发明专利技术通过使第一进料管内的清洗液和第二进料管的干燥气体交替通过前侧的导管进入到环壳的内腔，通过环壳内腔的另一侧清洗液或干燥气体与吸管相反的转动方向，调高清洗液或干燥气体沿着吸管内壁的相对流动速度，从而提高吸管内壁的附着物与清洗液或干燥气体的碰撞力度，从而提高吸管内壁的清洗效果，进而解决了传统吸管内部的清洗液不易发生流动，从而导致吸管内壁清洗效果差，易残留的问题，从而解决了残留杂质污染溶剂原液，导致洁净度降低的问题。导致洁净度降低的问题。导致洁净度降低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置


[0001]本专利技术属于化学溶液高纯度调配
，具体为一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置。

技术介绍

[0002]半导体工业对高洁净度化学品的需求十分高，其中溶液是半导体制造过程中必不可少的一环，制备高质量的半导体器件需要高纯度的化学品作为原材料，因此半导体高洁净度化学品溶液的调配是一个非常重要的技术。制备高洁净度化学品溶液的关键是原材料的高纯净度和避免外在杂质影响，调配过程需要在无尘室等高洁净度环境下进行，制备高洁净度化学品溶液是半导体制造过程中不可或缺的一环，对半导体器件的性能和质量有着重要的影响。
[0003]通常半导体化学品溶液的调配过程是通过吸管在溶剂箱中吸取一定量的溶剂后，再将溶剂注射到溶液箱中，使溶剂与溶液发生混合，从而获得相应混合物的过程，其中，吸管在溶剂箱中吸取溶剂时，部分溶剂会粘连在吸管的外表面，当吸管吸取溶剂转移到溶液箱时，附着在吸管表面的溶剂会与空气中的化学物质反应，导致吸管表面的溶剂化学性质发生改变，同时也会粘连空气中的灰尘，导致吸管再次吸取溶剂时，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置，包括底座(1)，所述底座(1)上表面中部的前侧固定安装有溶剂箱(201)，所述底座(1)上表面中部的后侧固定安装有溶液箱(202)，其特征在于：所述底座(1)上表面的一侧设有调控机构(3)，所述底座(1)上表面中部的另一侧圆周等距设有多组支撑板(4)，多组所述支撑板(4)的顶端固定安装有环壳(5)，所述环壳(5)的中部固定安装有支撑环(6)，所述支撑环(6)的中部滑动套接有圆块(7)，所述圆块(7)的上表面圆周等距固定安装有多组与支撑环(6)滑动套接的卡块(8)，所述卡块(8)外侧的底端固定安装有与支撑环(6)外曲面滑动套接的环套(9)，所述环套(9)的外侧面圆周等距开设有多组安装孔(901)，所述环套(9)的上表面圆周等距开设有多组安装槽(902)，多组所述安装孔(901)的中部均活动套接有齿轮轴(10)，多组所述安装槽(902)的中部均滑动套接有齿条(11)，所述齿条(11)的底端固定安装有与环壳(5)滑动套接的限位环(12)，多个所述齿轮轴(10)远离支撑环(6)的一端均固定安装有固定套(13)，多个所述固定套(13)的中部均设有吸管(14)，所述圆块(7)的中部与底座(1)的上表面之间设有升转机构(15)，所述升转机构(15)与环壳(5)上表面之间设有阀门机构(16)，所述底座(1)上表面的前后两侧设有与调控机构(3)和环壳(5)连接的换向阀机构(17)。2.根据权利要求1所述的一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置，其特征在于：所述调控机构(3)包括导向壳(307)，所述导向壳(307)固定安装在底座(1)上表面的一侧，所述底座(1)后侧面靠近导向壳(307)的一侧固定安装有第一驱动件(301)，所述第一驱动件(301)输出轴的前端固定安装有螺纹杆(302)，所述螺纹杆(302)的螺纹曲面连接有与导向壳(307)滑动套接的螺纹滑块(303)，所述导向壳(307)的中部滑动套接有与螺纹滑块(303)固定连接的支撑轴(304)，所述支撑轴(304)的顶端固定安装有伸缩杆(305)，所述伸缩杆(305)伸缩端的底端固定安装有管轴(306)，所述支撑轴(304)底部靠近环壳(5)的一侧固定安装有与导向壳(307)滑动套接的安装块(308)，所述安装块(308)的底面两侧均固定安装有夹柱(309)。3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：林裕哲，简建至，赵龙山，简水村，
申请(专利权)人：冠礼控制科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：