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本发明属于化学溶液高纯度调配技术领域,且公开了一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置,包括底座,底座上表面的一侧设有调控机构,底座上表面设有多组支撑板。本发明通过使第一进料管内的清洗液和第二进料管的干燥气体交替通过前侧的导管进入到环壳...该专利属于冠礼控制科技(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过冠礼控制科技(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明属于化学溶液高纯度调配技术领域,且公开了一种适用于半导体高洁净度化学品溶液的调配装置,包括底座,底座上表面的一侧设有调控机构,底座上表面设有多组支撑板。本发明通过使第一进料管内的清洗液和第二进料管的干燥气体交替通过前侧的导管进入到环壳...