表面保护膜制造技术

本发明专利技术提供一种能够表现足够高的防静电性和润湿性、进而可再加工性（轻剥离性）也优异的新型的表面保护膜。本发明专利技术的表面保护膜具有基材层和粘接剂层，且该粘接剂层中含有离子液体或碱金属盐。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种能够表现足够高的防静电性和润湿性、进而可再加工性（轻剥离性）也优异的新型的表面保护膜。本专利技术的表面保护膜具有基材层和粘接剂层，且该粘接剂层中含有离子液体或碱金属盐。【专利说明】表面保护膜
本专利技术涉及一种表面保护膜。本专利技术的表面保护膜具有基材层和粘接剂层，可用于贴附于显示构件或图像识别构件的表面而保护该表面的用途等。
技术介绍
在显示构件或图像识别构件的表面，有时为了防止该表面的损伤、污染等而贴合表面保护膜。这种表面保护膜大多情况下以人工操作进行贴合。在这样以人工操作进行贴合的情况下，存在往往会在被粘接体与表面保护膜之间夹带气泡的不良现象。在以人工操作贴合被粘接体与表面保护膜的情况下，作为防止在被粘接体与表面保护膜之间夹带气泡的技术，提出有在表面保护膜的粘接剂层中添加增塑剂而提高润湿性的技术(专利文献I)。 进而，在以人工操作贴合被粘接体与表面保护膜的情况下，大多情况下要求有润湿性，并且要求有防静电性。由于大多情况下以人工操作对相同的表面保护膜进行数次贴合、剥离，因此若为未经防静电处理的被粘接体时，则在剥离保护膜时产生的被粘接体的剥离带电压变大而产生不良情况。例如，异物在被粘接体上集尘而污染光学构件。另外，若为偏光板等光学构件，则在静电量较多的情况下直接施加于液晶上时，液晶分子的取向受到损失、或产生面板的缺陷。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2010-209324号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是为了解决上述现有的问题而完成的，其目的在于:提供一种新型的表面保护膜，其无气泡的夹带，能够表现足够高的润湿性，可再加工性(reworkability)(轻剥离性)、剥离时的防静电性也优异。用于解决课题的方法本专利技术的表面保护膜具有基材层和粘接剂层，且在该粘接剂层中含有离子液体或碱金属盐。在优选的实施方式中，上述离子液体在上述粘接剂层中的含有比例为0.1~1.5重量％。在优选的实施方式中，上述碱金属盐在上述粘接剂层中的含有比例为0.04~0.3重量％。在优选的实施方式中，上述粘接剂层的剥离带电压为0.7kV以下。在优选的实施方式中，上述粘接剂层的与被粘接体接触的面对于丙烯酸板的润湿速度为5.0cm2/sec以上。在优选的实施方式中，上述粘接剂层的与被粘接体接触的面对于丙烯酸板的粘接力为 0.02 ~1.5N/25mm。在优选的实施方式中，本专利技术的表面保护膜用于显示构件或图像识别构件的表面。本专利技术也提供一种显示构件。本专利技术的显示构件包覆有本专利技术的表面保护膜。本专利技术还提供一种图像识别构件。本专利技术的图像识别构件包覆有本专利技术的表面保护膜。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供一种新型的表面保护膜，其通过在粘接剂中含有离子液体或碱金属盐，能够表现足够高的防静电性，且能够表现足够高的润湿性，进而可再加工性(轻剥离性)也优异 。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术的优选的实施方式的表面保护膜的示意性截面图。图2是表示润湿速度的测定中的丙烯酸板与试片在贴合前的状态的示意性截面图。【具体实施方式】《A.表面保护膜》本专利技术的表面保护膜具备基材层和粘接剂层。图1是本专利技术的优选的实施方式的表面保护膜的示意性截面图。表面保护膜10具备基材层I和粘接剂层2。本专利技术的表面保护膜也可视需要进而具备任意的适当的其它层(未图示)。对在基材层I的未附设粘接剂层2的面，为了形成开卷较容易的卷绕体等，例如，可在基材层中添加脂肪酸酰胺、聚乙烯亚胺、长链烷基类添加剂等而进行脱模处理，或设置含有有机硅类、长链烷基类、氟类等任意的适当的剥离剂的涂层。本专利技术的表面保护膜也可贴合具有脱模性的剥离衬垫。本专利技术的表面保护膜的厚度可根据用途而设定为任意的适当的厚度。就充分表现本专利技术的效果的观点而言，优选为10~300 μ m，更优选为15~250 μ m，更加优选为20~200 μ m,特别优选为25~150 μ m。本专利技术的表面保护膜的粘接剂层的剥离带电压优选为0.7kV以下，更优选为0.5kV以下，更加优选为0.3kV以下，特别优选为0.1kV以下，最优选实质上为OkV。若粘接剂层的剥离带电压在上述范围内，则本专利技术的表面保护膜能够表现足够高的防静电性，且能够表现足够高的润湿性，可再加工性(轻剥离性)也优异，作业时的操作性也优异。此外，上述剥离带电压的测定如后所述。本专利技术的表面保护膜的粘接剂层的与被粘接体接触的面对于丙烯酸板的润湿速度优选为5.0cm2/sec以上,更优选为10cm2/sec以上,更加优选为15cm2/sec以上,特别优选为20cm2/sec以上，最优选为30cm2/sec以上。上述润湿速度的上限值并无特别限定，就现实方面而言，优选为lOOOcmVsec以下，更优选为lOOcmVsec以下。若粘接剂层的与被粘接体接触的面对于丙烯酸板的润湿速度在上述范围内，则本专利技术的表面保护膜能够表现足够高的润湿性。此外，上述润湿速度的测定如后所述。本专利技术的表面保护膜的粘接剂层的与被粘接体接触的面对于丙烯酸板的粘接力优选为0.02~1.5N/25mm,更优选为0.02~1.0N/25mm,更加优选为0.02~0.5N/25mm,特别优选为0.02~0.4N/25mm，最优选为0.02~0.3N/25mm。若粘接剂层的与被粘接体接触的面对于丙烯酸板的粘接力在上述范围内，则本专利技术的表面保护膜的可再加工性(轻剥离性)优异。此外，上述粘接力的测定如后所述。< Α-l.基材层>作为基材层的厚度，可根据用途而采用任意的适当的厚度。基材层的厚度优选为5~300 μ m,更优选为10~250 μ m,更加优选为15~200 μ m,特别优选为20~150 μ m。基材层可为单层，也可为两层以上的叠层体。基材层也可为经拉伸的层。作为基材层的材料，可根据用途而采用任意的适当的材料。例如，可列举塑料、纸、金属膜、无纺布等。优选为塑料。基材层可含有一种材料，也可含有两种以上的材料。例如，可含有两种以上的塑料。作为上述塑料，例如可列举聚酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚烯烃类树脂等。作为聚酯类树脂，例如可列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等。作为聚烯烃类树脂，例如可列举烯烃单体的均聚物、烯烃单体的共聚物等。作为聚烯烃类树脂，具体而言，例如可列举:均聚聚丙烯；以乙烯成分为共聚成分的嵌段类、无规类、接枝类等的丙烯类共聚物；反应器直接制备TPO (Thermoplastic Olefin,热塑性聚烯烃)；低密度、高密度、线性低密 度、超低密度等的乙烯类聚合物；乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物等乙烯类共聚物等。基材层可视需要含有任意的适当的添加剂。作为可在基材层中含有的添加剂，例如可列举抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、防静电剂、填充剂、颜料等。可在基材层中含有的添加剂的种类、数目、量可根据目的而适当设定。尤其是在基材层的材料为塑料的情况下，为了防止劣化等，优选含有数种上述添加剂。就提高耐候性等的观点而言，作为添加剂，特别优选列举抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、填充剂。作为抗氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面保护膜，具有基材层和粘接剂层，该表面保护膜的特征在于：该粘接剂层中含有离子液体或碱金属盐。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐创矢，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：
国别省市：