多层光记录介质制造用片材1，其用于制造将光记录层11与粘合剂层12层叠而成的多层光记录介质10，由光记录层11与粘合剂层12层叠而成；粘合剂层12由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且粘合剂层12不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构；将聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，含氟单体以及含硅单体的合计含量为10～100质量％。利用该多层光记录介质制造用片材1，在光记录层11与粘合剂层12的界面，可以检出充分强度的反射光，并且可以制造在粘合剂层12的散射光少，杂讯少的多层光记录介质。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】多层光记录介质制造用片材1，其用于制造将光记录层11与粘合剂层12层叠而成的多层光记录介质10，由光记录层11与粘合剂层12层叠而成；粘合剂层12由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且粘合剂层12不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构；将聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，含氟单体以及含硅单体的合计含量为10～100质量％。利用该多层光记录介质制造用片材1，在光记录层11与粘合剂层12的界面，可以检出充分强度的反射光，并且可以制造在粘合剂层12的散射光少，杂讯少的多层光记录介质。【专利说明】多层光记录介质制造用片材、多层光记录介质以及粘合剂
本专利技术关于层叠光记录层和粘合剂层而成的多层光记录介质以及其制造中可以使用的多层光记录介质制造用片材及粘合剂。
技术介绍
近年，为实现光记录介质中记录信息的高密度化，提出了利用多光子吸收性材料的多层光记录介质。为了降低在这种多层光记录介质中的串扰(cross talk)，提出了在光记录层与光记录层之间设置非光记录层的结构(例如，参照专利文献I及专利文献2)。并且，在这种结构的多层光记录介质中，研究探讨了通过照射记录光而使光记录层的形状改变，光记录层相对于中间层形成凸结构，由此将信息记录于光记录层的方法(参照专利文献3)。为了制造如上所述结构的多层光记录介质，通常采用利用旋涂法来形成各层，进行层叠的方法。不过，此法有多层光记录介质难于大面积化，材料受到限制等的问题。为了解决上述问题，提出使用压敏粘合性片材(pressure-sensitive adhesivesheet)制造多层光记录介质的方法，这种压敏粘合性片材通过将含有感光材料的光记录层和粘合剂层进行层叠而形成(参照专利文献4)。通过使用这种压敏粘合性片材的制造方法，可以容易且大面积地制造多层光记录介质。现有技术文献专利文献专利文献1:特开平11-250496号公报专利文献2:特开2000-67464号公报专利文献3:特开2012-89195号公报专利文献4:特开2005-209328号公报
技术实现思路
本专利技术要解决的课题在以往的多层记录介质中，通过利用溅射等设置反射层，利用在反射层界面的反射光进行各层的检出。近年，有研究进行了如下的探讨:在上述那样的多层记录介质中，通过利用来自光记录层与粘合剂层的界面的反射光检出各层界面，从光记录层进行信息的读取。像这样在利用来自光记录层与粘合剂层的界面的反射光的情况下，与设置反射层的情况相比，必须检出强度弱的反射光。以往的粘合剂层折射率比较高，与光记录层的折射率差小，因此存在难于得到检出所必需强度的反射光的问题。而且，由于粘合剂层的相分离状态，散射光多，其散射光成为检出反射光时的杂讯(noise)，有发生反射光检出不良的时候。本专利技术是鉴于上述情况而进行的，本专利技术的目的是提供能够在光记录层与粘合剂层的界面检出充分强度的反射光，而且在粘合剂层的散射光少，杂讯少的多层光记录介质，以及可以用于制造该多层光记录介质的多层光记录介质制造用片材及粘合剂。用于解决课题的方法上述本专利技术的目的，可以用如下专利技术达成:第一，本专利技术提供多层光记录介质制造用片材，其是用于制造层叠光记录层和粘合剂层而成的多层光记录介质的多层光记录介质制造用片材，其特征在于:由光记录层和粘合剂层叠层而成；所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和/或含硅单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构(domain structure),或者具有区域(domain)的大小为IlOnm以下的区域结构；将上述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，上述含氟单体以及上述含硅单体的合计含量为10?100质量％ (专利技术I)。上述专利技术(专利技术I)中的粘合剂层的折射率低，与光记录层的折射率差大，因此在光记录层与粘合剂层的界面，能够得到检出所必需的充分强度的反射光。而且上述专利技术(专利技术I)中的粘合剂层，散射光少，因此在光记录层与粘合剂层的界面检出反射光时的杂讯少，可以抑制反射光检出不良的发生。上述专利技术(专利技术I)中，所述含氟单体优选为含氟丙烯酸类单体，所述含硅单体优选为含硅丙烯酸类单体(专利技术2)。上述专利技术(专利技术1，2)中，所述聚合物优选含有具有官能团的丙烯酸类单体作为构成单体成分(专利技术3)。上述专利技术(专利技术I?3)中，所述聚合物优选用交联剂交联(专利技术4)。上述专利技术(专利技术4)中，所述交联剂优选为选自由金属类交联剂、环氧类交联剂以及氮丙啶类交联剂所构成的组中的至少一种(专利技术5)。上述专利技术(专利技术I?5)中，所述粘合剂层优选折射率为1.45以下(专利技术6)。上述专利技术(专利技术I?6)中，所述光记录层优选含有光子吸收性材料(专利技术7)。第二，本专利技术提供多层光记录介质，其特征在于:使用所述多层光记录介质制造用片材(专利技术I?7)而得到(专利技术8)。第三，本专利技术提供多层光记录介质，其特征在于:将光记录层与粘合剂层叠层而成；所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和/或含娃单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构(domain structure),或者具有区域(domain)的大小为IlOnm以下的区域结构；将所述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10?100质fi% (专利技术9)。上述专利技术(专利技术8，9)所述的多层光记录介质，如果向所述多层光记录介质照射记录光，则可在所述光记录层与所述粘合剂层的界面，在所述光记录层形成凸部，在与形成了所述凸部的部分相接的所述粘合剂层形成凹部(专利技术10)。第四，本专利技术提供粘合剂，其以聚合物作为主成分，所述聚合物含有含氟单体和/或含硅单体作为构成单体成分，其特征在于:将所述共聚物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时,所述含氟单体以及所述含娃单体的合计含量为10?100质量％ ;所述粘合剂不具有区域结构(domain structure),或者具有区域(domain)的大小为IlOnm以下的区域结构；将所述粘合剂制成厚度为10 μ m的粘合剂层时的折射率为1.45以下(专利技术11)。专利技术效果根据本专利技术，在光记录层与粘合剂层的界面能够检出充分强度的反射光，而且在粘合剂层中散射光少，可以得到检出反射光时的杂讯少的多层光记录介质。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术的一个实施方式所涉及的多层光记录介质制造用片材的截面图。图2为本专利技术的一个实施方式所涉及的多层光记录介质的截面图。图3为实施例3中粘合剂层的由SPM所得到的DFM相位像的照片。图4为实施例14中粘合剂层的由SPM所得到的DFM相位像的照片。图5为比较例4中粘合剂层的由SPM所得到的DFM相位像的照片。【具体实施方式】以下，对本专利技术的实施方式进行说明。在由本实施方式所提供的多层光记录介质中，利用记录材料的光子吸收进行记录。所谓光子吸收是指化合物吸收光子而被激发的现象。〔光记录介质制造用片材〕图1为本专利技术的一个实施方式涉及的多层光记录介质制造用片材的截面图。本实施方式涉及的多层光记录介质制造用片材1，由光记录层11、本文档来自技高网...
【技术保护点】
多层光记录介质制造用片材，其用于制造将光记录层与粘合剂层层叠而成的多层光记录介质，其特征在于：由光记录层与粘合剂层层叠而成；所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构；将所述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10～100质量％。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤雅春，山口征太郎，小曾根雄一，
申请(专利权)人：琳得科株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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