光学信息记录介质及其制造方法技术

光学信息记录介质10包括：多个记录层14，各个记录层14通过记录光的照射而发生折射率的变化；以及设置在该多个记录层14之间的至少一个中间层15。记录层14和中间层15具有不同的折射率，并且在所述多个记录层14与所述至少一个中间层15之间的界面中，记录层14和被设置为在记录光进入该记录层14的入射侧与该记录层14邻接的中间层15在它们之间的界面（近侧界面19）处彼此融合，由此折射率在该界面处逐渐变化。制造权利要求1所述的光学信息记录介质的方法包括：第一步，将记录层的材料涂布到记录层形成表面上；第二步，在使所述记录层的材料固化之前或使所述记录层的材料部分固化之后，涂布中间层的材料；以及第三步，使所述记录层的材料和所述中间层的材料固化。重复实施第一步至第三步。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
近年来，为了在光学信息记录介质的多个层中记录信息，研究了这样的方法该方法利用双光子吸收等多光子吸收反应使光学信息记录介质中所含的记录材料发生光学变化(参见(例如)专利文献I)。对于利用多光子吸收反应的光学信息记录介质，与广泛使用的传统的具有记录单层的光学信息记录介质相同，考虑到读取信息时在记录层的上下两界面处所反射的反射光相互干涉(这被称作干涉效果)，确定在记录区域处记录材料的折射率变化和记录层的厚度，使得记录部分的反射率与非记录部分的反射率的差值(即，在记录层的上下界面处反射并且相互干涉，然后返回到光学拾波器的光束的比率的差值)大。在专利 文献I中公开的信息记录介质中，如该文献的图2所示考虑了膜厚度与反射率之间的关系，并且第段建议记录层的厚度优选为约λ/4η (其中λ为读取光的波长，η为记录层的折射率)，或者厚度更薄至约5nm至50nm。专利文献2公开了不利用以上文献所利用的干涉效果的另一光学信息记录介质。根据该已知的光学信息记录介质，在记录层下设置荧光发光层，该荧光发光层所发出的光穿过记录层而被检测，由此读取信息。引用列表专利文献专利文献1:日本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.13 JP 2010-1585831.一种光学信息记录介质，包括 多个记录层，各个记录层通过记录光的照射而发生折射率的变化；以及 设置在该多个记录层之间的至少一个中间层， 其中，所述记录层和所述中间层具有不同的折射率，并且 在所述多个记录层与所述至少一个中间层之间的界面中，记录层和被设置为在记录光进入该记录层的入射侧与该记录层邻接的中间层在它们之间的界面处相互融合，由此折射率在该界面处逐渐变化。2.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，所述记录层由包含染料的树脂制成，并且所述至少一个中间层由对所述记录光透明的树脂制成。3.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其满足...

【专利技术属性】
技术研发人员：北原淑行，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：
国别省市：