【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术的实施方式涉及一种基板处理装置,传送并处理液晶显示装置的玻璃基板等基板。
技术介绍
在制造液晶显示装置等显示装置的玻璃基板时,在基板处理装置中传送基板并对该基板实施各种处理。作为基板处理装置对基板实施的处理,有例如抗蚀剂涂布处理、抗蚀剂剥离处理、蚀刻处理及清洗处理等。例如,在基板处理装置对基板进行清洗处理的情况下,一边由基板传送部传送基板,一边向基板的表面供给清洗处理液。这种基板处理装置具有在传送基板的过程中检测是否有基板的基板检测装置。基板检测装置具有被支撑为能够摆动的摆动部件、检测辊、磁铁及舌簧开关。检测辊能够旋转地设置在摆动部件的一端部,被所传送的基板按压。磁铁固定在摆动部件的另一端部。舌簧开关设置在与摆动部件的摆动方向交叉的方向上。所传送的基板与检测辊相碰,从而摆动部件旋转,磁铁向旋转方向旋转。由此,舌簧开关根据磁铁所产生的磁场的变化来输出信号。但是,在上述基板处理装置中,当所传送的基板与检测辊相碰从而摆动部件旋转时,摆动部件像摆锤那样进行摆动运动,存在摆动部件的摆动运动不会立即收敛的情况。因此,舌簧开关多次检测出磁铁所产生 ...
【技术保护点】
一种基板处理装置,具有检测是否有传送的基板的基板检测装置,其特征在于,上述基板检测装置具备:基部;摆动部件,被安装为相对于上述基部摆动自如;检测辊,设置在上述摆动部件的一端部,与所传送的上述基板相碰;配重及磁铁,设置在上述摆动部件的另一端部;检测传感器,若所传送的上述基板按下上述检测辊,从而上述摆动部件从上述基板与上述检测辊相碰前的上述摆动部件的初始位置向旋转方向旋转,则检测出上述磁铁所产生的磁场的变化,并输出表示检测到上述基板的检测信号;以及摆动制动器,在上述摆动部件的初始位置,将上述摆动部件保持成相对于与上述基板的传送方向交叉的垂直线倾斜。
【技术特征摘要】
2012.08.22 JP 2012-1829641.一种基板处理装置,具有检测是否有传送的基板的基板检测装置,其特征在于, 上述基板检测装置具备: 基部; 摆动部件,被安装为相对于上述基部摆动自如; 检测辊,设置在上述摆动部件的一端部,与所传送的上述基板相碰; 配重及磁铁,设置在上述摆动部件的另一端部; 检测传感器,若所传送的上述基板按下上述检测辊,从而上述摆动部件从上述基板与上述检测棍相碰前的上述摆动部件的初始位置向旋转方向旋转,则检测出上述磁铁所产生的磁场的变化,并输出表示检测到上述基板的检测信号;以及 摆动制动器,在上述摆动部件的初始位置,将上述摆动部件保持成相对于与上述基板的传送方向交叉的垂直线倾斜。2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于, 上述摆动部件具有沿着上述垂直线形成的第I部分、以及从上述第I部...
【专利技术属性】
技术研发人员:末吉秀树,宫迫久显,荻原洁,滨田崇广,
申请(专利权)人:芝浦机械电子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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