【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】酚醛系树脂以及光刻用下层膜形成材料
[0001 ] 本专利技术涉及酚醛系树脂以及包含该树脂的树脂组合物。另外，本专利技术涉及光刻用下层膜形成材料和光刻用下层膜、以及使用该光刻用下层膜形成材料的光致抗蚀剂图案形成方法。
技术介绍
作为制造酚醛树脂等的反应，通常已知的是酸性催化剂存在下的酚类与甲醛的反应。另外，也公开有使乙醛、丙醛、异丁醛、巴豆醛或苯甲醛等醛类反应而制造多元酚类(参照专利文献I)、酚醛清漆树脂(参照专利文献2)。另外公开有使具有酚和醛两者的性能的、羟基苯甲醛等反应而制造酚醛清漆树脂(参照专利文献3)。另外，多元酚类、酚醛清漆树脂作为半导体用的涂布剂、抗蚀剂用树脂而使用，作为这些用途中的性能之一而要求耐热性。另一方面，作为对于光刻工艺中的精细加工有用的、特别是集成电路元件的制造中合适的防反射膜形成组合物，公开有防反射膜形成组合物，其含有:具有下述式所示的结构作为单体单元的聚合物(苊树脂)以及溶剂(参照专利文献4)。[化学式I]
【技术保护点】
一种树脂，其是使式（1）和/或式（2）所示的化合物与式（3）和/或式（4）所示的醛在酸性催化剂的存在下反应而获得的，[化学式1][化学式2]式（1）及式（2）中，X表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～10的芳基或环己基，Y表示碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～10的芳基或环己基，p表示1～3的数，q表示0～3的数，存在多个X、Y时，X、Y分别相同或不同，式（1）中的A表示0～2的数，[化学式3][化学式4]式（3）及式（4）中，Z表示碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～10的芳基、环己基、羟基、甲酰基或羰基，r表示0～6的数，存在多个Z时，Z分别相同或不同，式（3）中的B表示0～2的数。FDA0000428721980000011.jpg,FDA0000428721980000012.jpg,FDA0000428721980000013.jpg,FDA0000428721980000014.jpg
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.03 JP 2011-1250291.一种树脂，其是使式(I)和/或式(2)所示的化合物与式(3)和/或式(4)所示的醛在酸性催化剂的存在下反应而获得的， [化学式I]2.根据权利要求1所述的树脂，其中，所述式(I)所示的化合物为选自由苯酚类、邻苯二酚类、氢醌类、甲酚类、乙基苯酚类、丙基苯酚类、丁基苯酚类、苯基苯酚类、甲基邻苯二酚类、甲基氢醌类、萘酚类、二羟基萘类、羟基蒽类、二羟基蒽类、三羟基蒽类及四羟基蒽类组成的组中的至少一种。3.根据权利要求1所述的树脂，其中，所述式(I)中的A为O或I。4.根据权利要求1所述的树脂，其中，所述式(2)所示的化合物为选自由菲酚类、甲基菲酚类、二甲基菲酚类及二羟基菲酚类组成的组中的至少一种。5.根据权利要求1~4中的任一项所述的树脂，其中，所述式(3)所示的醛为选自由苯甲醛类、甲基苯甲醛类、乙基苯甲醛类、丙基苯甲醛类、丁基苯甲醛类、环己基苯甲醛类、联苯甲醛类、羟基苯甲醛类、二羟基苯甲醛类、萘甲醛类、羟基萘甲醛类及蒽甲醛类组成的组中的至少一种。6.根据权利要求1~4中的任一项所述的树脂，其中，所述式(4)所示的醛为选自由菲甲醛类、甲基菲甲醛类、二甲基菲甲醛类、羟基菲甲醛类及二羟基菲甲醛类组成的组中的至少一种。7.根据权利要求1~6中的任一项所述的树脂，其中，所述酸性催化剂为选自由盐酸、硫酸、磷酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、柠檬酸、富马酸、马来酸、甲酸、对甲苯磺酸、甲磺酸、三氟乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、三氟甲磺酸、苯磺酸、萘磺酸、萘二磺酸、氯化锌、氯化铝、氯化铁、三氟化硼、硅钨...
【专利技术属性】
技术研发人员：内山直哉，东原豪，越后雅敏，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。