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本发明提供一种新型的酚醛系树脂，其能够用作半导体用的涂布剂、抗蚀剂用树脂，树脂中的碳浓度高、氧浓度低、耐热性比较高、溶剂溶解性也比较高，能够应用湿式工艺。还提供对于形成新型的光致抗蚀剂下层膜有用的材料、使用该材料而形成的下层膜、以及使用该材...
该专利属于三菱瓦斯化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱瓦斯化学株式会社授权不得商用。

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