用于减少放射性标记的化合物的辐解的装置和方法制造方法及图纸

公开了在过滤、浓缩和纯化期间用于减少放射性药物的辐解的装置和方法。所述装置包含具有低于使用的放射性同位素的β(+)或β(-)范围的横截面尺寸的两种或更多种限制性几何结构，当容纳所述放射性同位素时，其设置方式使得邻近的几何结构与其最接近的邻近结构隔离，使得当容纳所述放射性同位素时，在所述限制性几何结构之间不发生可测量的动力学正电子能量转移。还公开了过滤含有放射性同位素的混合物的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】背景本专利技术总体上涉及用于在放射性药物生产和纯化中减少辐解的装置和方法。正电子发射层析成像(PET)与单光子发射计算层析成像(SPECT)共同为强大的医疗成像技术，其在医疗诊断和药物发现中正在发展的分子成像领域获得应用。应用微流体和相关的技术用于合成正电子发射层析成像(PET)所用的放射性药物已获得科学界日益增长的关注。以下益处令人非常关注并且已被证明:例如减少的反应时间、高度有效的反应、低试剂消耗、减小的系统覆盖区和提高的系统自动化。预期进一步缩减规模，尤其是对于放射性标记反应(其可受益于一种反应物相对于其它反应物的高浓度)以及对于利用高成本的前体的研究分析。用于放射性药物生产的合成反应体积的规模缩减意味着提高每单位体积的放射性。在给定的合成体积中放射性浓缩的常规过程最终受辐解的限制。辐解，更具体为自辐解，是在高浓度的放射性下分子随时间的分解。本文使用的辐解、辐射分解作用和自辐解可互换使用。辐射分解作用起因于由同位素衰变事件和正电子((6+)发射引发的电离和分解级联。它们在几毫米范围内发生，取决于利用的同位素和周围的介质。分子沿着发射的正电子的电离路径的直接分解和电离可导致随后形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种装置，所述装置包含：两种或更多种限制性几何结构，所述限制性几何结构包含：当容纳放射性同位素时，低于所述放射性同位素的β(+)或β(?)范围的横截面尺寸；和其中设置相邻的限制性几何结构，使得邻近的限制性几何结构与最接近的邻近限制性几何结构隔离，使得当容纳所述放射性同位素时，在所述限制性几何结构之间不发生可测量的动力学正电子能量转移；允许流体转移进入所述限制性几何结构的入口；和允许流体转移离开所述限制性几何结构的出口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.30 US 13/1739121.一种装置，所述装置包含: 两种或更多种限制性几何结构，所述限制性几何结构包含: 当容纳放射性同位素时，低于所述放射性同位素的0 (+)或0 (-)范围的横截面尺寸；和 其中设置相邻的限制性几何结构，使得邻近的限制性几何结构与最接近的邻近限制性几何结构隔离，使得当容纳所述放射性同位素时，在所述限制性几何结构之间不发生可测量的动力学正电子能量转移； 允许流体转移进入所述限制性几何结构的入口 ；和 允许流体转移离开所述限制性几何结构的出口。2.权利要求1的装置，其中所述P(+)或P (-)范围为约0.01 Mm-3000 Mm。3.权利要求1的装置，其中所述P(+)或P (-)范围为约I Mm-2000 Mm。4.权利要求1的装置，其中所述限制性几何结构包含长方形、三角形或圆形横截面通道或它们的组合。5.权利要求1的装置，其中所述限制性几何结构包含在缠绕的层结构之间的间隔。6.权利要求1的装置，其中以下至少之一包含高正电子吸收材料:所述限制性几何结构或所述限制性几何结构之间的区域。7.权利要求6的装置，其中所述高正电子吸收材料为铅、钨、环氧树脂，或它们的组入``口 o8.权利要求1的装置，所述装置还包含在所述限制性几何结构内安置的固体载体。9.权利要求8的装置，其中所述固体载体包含聚合物、玻璃、硅酮或它们的组合，其能与含有放射性同位素的混合物的一种或多种组分结合。10.权利要求1的装置，其中所述限制性几何结构还包含用于纯化、相转移和浓缩含有放射性同位素的材料的功能表面涂层。11.权利要求1的装置，所述装置还包含在相邻的限制性几何结构之间安置的屏蔽结构。12.权利要求11的装置，其中所述屏蔽结构包含正电子吸收材料插入物和正电子吸收流体，或它们的组合。13.权利要求1的装置，其中所述装置为石英微纤维过滤器(QMA)、固相提取筒(SPE)、液相色谱柱(LC)、高压液相色谱柱(HPLC)、薄层色谱室(TLC)或它们的组合。14.权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：C伦施，M巴勒，C贝尔德，RJ霍尔瓦思克莱因，V桑珀，J乌林，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：
国别省市：