N-(1,2,5-噁二唑-3-基)-、N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)双环芳基-羧酰胺及其作为除草剂的用途制造技术

N-(1,2,5-噁二唑-3-基)-、N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)双环芳基-羧酰胺。本发明专利技术描述了作为除草剂的通式（I）的N-(1,2,5-噁二唑-3-基)-、N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)双环芳基-羧酰胺。在所述式（I）中，R3、R4和R5表示残基如氢，有机残基如烷基，和其它残基如卤素。Q表示杂环。X和Y表示氧和硫。。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】N- (1, 2, 5-噁二唑-3-基)-、N-(四唑-5-基)-和 N-(三唑-5-基)双环芳基-羧酰胺及其作为除草剂的用途本专利技术涉及除草剂
，特别是涉及在有用植物作物中用于选择性防治野草和杂草的除草剂的
。由TO2003/010143 和 TO2003/010153 已知某些 N-(四唑-5-基)-和 N-(三唑-5-基)苯甲酰胺类化合物和它们的药理作用。在CAS号639048-78-5项下已知化合物N-(l-丙基四唑-5-基)-2，5-二氯苯甲酰胺。在这些文献中并未公开这些化合物的除草作用。由优先权较早的但在本申请的 优先权日:前尚未公开的欧洲专利申请第0912169.0号和10174893.7号已知N-(I, 2，5-噁二唑-3-基)-、Ν_(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)芳基羧酰胺及其作为除草剂的用途。现已发现N-(I, 2，5-噁二唑-3-基)_、Ν_(四唑_5_基)-和N-(三唑_5_基)双环芳基-羧酰胺特别好地适合作为除草剂。因此，本专利技术的主题是式(I)的N-(1，2，5-噁二唑-3-基)_、Ν_(四唑_5_基)-和N-(三唑-5-基)双环芳基-羧酰胺或其盐

【技术保护点】
式（I）的N?(1,2,5?噁二唑?3?基)?、N?(四唑?5?基)?和N?(三唑?5?基)双环芳基?羧酰胺或其盐其中Q???表示残基?Q1、Q2或?Q3，R1?表示?(C1–C6)?烷基、(C3–C7)?环烷基、卤素?(C1–C6)?烷基、(C2?C6)?烯基、卤素?(C2?C6)?烯基、(C2?C6)?炔基、卤素?(C2?C6)?炔基、(C1?C6)?烷氧基?(C1–C6)?烷基、(C1?C6)?烷氧基?(C2–C6)?烯基、(C1?C6)?烷氧基?(C2–C6)?炔基、CH2R6、杂芳基、杂环基或苯基，其中最后三个残基各自被u个选自下述的残基取代：卤素、硝基、氰基、(C1?C6)?烷基、卤素?(C1?C6)?烷基、(C3?C6)?环烷基、?(C1?C6)?烷基硫基、(C1?C6)?烷基亚磺酰基、(C1?C6)?烷基磺酰基、(C1?C6)?烷氧基、卤素?(C1?C6)?烷氧基和?(C1?C6)?烷氧基?(C1?C4)?烷基；R2?表示氢、(C1–C6)?烷基、(C3–C7)?环烷基、卤素?(C1?C6)?烷基、(C1?C6)?烷氧基、卤素?(C1–C6)?烷氧基、(C2?C6)?烯基、(C2?C6)?烯氧基、卤素?(C2?C6)?烯基、(C2?C6)?炔基、(C2?C6)?炔氧基、卤素?(C2?C6)?炔基、氰基、硝基、甲基次磺酰基、甲基亚磺酰基、甲基磺酰基、乙酰氨基、苯甲酰氨基、甲氧羰基、乙氧羰基、甲氧羰基甲基、乙氧羰基甲基、苯甲酰基、甲基羰基、哌啶基羰基、三氟甲基羰基、卤素、氨基、氨基羰基、甲基氨基羰基、二甲基氨基羰基、甲氧基甲基，各自被u个选自下述的残基取代的杂芳基、杂环基或苯基：甲基、乙基、甲氧基、三氟甲基和卤素；R3和R4?彼此独立地各自表示氢、(C1–C6)?烷基、卤素?(C1–C6)?烷基、(C2–C6)?烯基、卤素?(C2–C6)?烯基、(C2–C6)?炔基、卤素?(C2–C6)?炔基、(C3–C7)?环烷基、(C3–C7)?卤代环烷基、(C1?C6)?烷氧基、(C1?C6)?卤代烷氧基、(C1?C6)?烷基硫基、(C1?C6)?卤代烷基硫基、(C1?C6)?烷基亚磺酰基、(C1?C6)?卤代烷基亚磺酰基、(C1?C6)?烷基磺酰基、(C1?C6)?卤代烷基磺酰基、(C1?C6)?烷氧基?(C1?C4)?烷基、卤素、硝基或氰基；R5??表示氢或氟；R6?表示乙酰氧基、乙酰氨基、N?甲基乙酰氨基、苯甲酰基氧基、苯甲酰氨基、N?甲基苯甲酰氨基、甲氧羰基、乙氧羰基、苯甲酰基、甲基羰基、哌啶基羰基、吗啉基羰基、三氟甲基羰基、氨基羰基、甲基氨基羰基、二甲基氨基羰基、(C3?C6)?环烷基或各自被u个选自下述的残基取代的杂芳基、杂环基或苯基：甲基、乙基、甲氧基、三氟甲基和卤素；R7和R8?????彼此独立地各自表示氢、(C1–C6)?烷基、卤素?(C1–C6)?烷基、(C2–C6)?烯基、卤素?(C2–C6)?烯基、(C2–C6)?炔基、卤素?(C2–C6)?炔基、(C3–C7)?环烷基、卤素?(C3–C7)?环烷基、?OR9、S(O)mR9、(C1?C6)?烷基硫基、卤素?(C1?C6)?烷基硫基、(C1?C6)?烷基亚磺酰基、卤素?(C1?C6)?烷基亚磺酰基、(C1?C6)?烷基磺酰基、卤素?(C1?C6)?烷基磺酰基、(C1?C6)?烷氧基?(C1?C4)?烷基、卤素、硝基、氰基、杂芳基、杂环基或苯基，其中所述最后三个残基各自被u个选自下述的残基取代：卤素、硝基、氰基、(C1?C6)?烷基、卤素?(C1?C6)?烷基、(C3?C6)?环烷基、?(C1?C6)?烷基硫基、(C1?C6)?烷基亚磺酰基、(C1?C6)?烷基磺酰基、(C1?C6)?烷氧基、卤素?(C1?C6)?烷氧基以及?(C1?C6)?烷氧基?(C1?C4)?烷基，或者R7?和R8与它们连接于其上的碳原子一起形成单元??X1?(CH2)r?X2?、?(CH2)s?X3?、?(CH2)t?X3?CH2?、?(CH2)v?X3?CH2CH2?或?(CH2)w?，其中每个所提及的?(CH2)?基团被?m个选自下述的残基取代：卤素、甲基和?(C1?C3)?烷氧基，或者R7?和R8与它们连接于其上的碳原子一起一起形成单元??O?N((C1?C3)?烷基)?CHR10?CH2?或–O?N=CR10?CH2?，其中每个所提及的?(CH2)?基团被?m个选自下述的残基取代：卤素和甲基；R9?表示氢、(C1–C6)?烷基、卤素?(C1–C6)?烷基、(C2–C6)?烯基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.03.15 EP 11158258.11.式(I)的^(1，2，5-噁二唑-3-基)-4-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)双环芳基-羧酰胺或其盐其中 2.根据权利要求1所述的N- (1，2，5-噁二唑-3-基)-、N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)双环芳基-羧酰胺，其中Ri表不(C1 - C3)-烷基、(C3 - C5)-环烷基、卤素-(C1 - C3)-烷基或(C1-C3)-烧氧基 - (C1 _ C3) _ 烷基；R2表不氢、(C1 - C3)-烷基、(C3 - C5)-环烷基、卤素-(C1 - C3)-烷基、(C1-C3)-烷氧基、齒素-(C1 - C3)-烷氧基、氰基、硝基、甲基次磺酰基、甲基亚磺酰基、甲基磺酰基、乙酰氨基、甲氧擬基、乙氧擬基、卤素、氣基、氣基擬基、甲基氣基擬基、二甲基氣基擬基或甲氧基甲基；R3和R4彼此独立地各自表不氧、(C1 - C3)-烷基、卤素-(C1 - C3)-烷基、(C3-C5)-环烷基、(C1-C3)-烷氧基、(C1-C3)-卤代烷氧基、(C1-C6)-烷基硫基、(C1-C6)-烷基亚磺酰基、(C1-C6)-烷基磺酰基、(C1-C6)-烷氧基-(C1-C4)-烷基、素、硝基或氰基；R5表示氢；R7和R8彼此独立地各自表不氧、(C1 - C3)-烷基、卤素-(C1 - C3)-烷基、(C3-C5)-环烷基、-OR9、-S(O)mR9、(C1-C3)-烷基硫基、(C1-C3)-烷基亚磺酰基、(C1-C3)-烷基磺酰基、(C1-C3)-烷氧基-(C1-C3)-烷基、卤素、硝基、氰基、杂芳基、杂环基或苯基，其中所述最后三个残基各自被u个选自下述的残基取代:卤素、硝基、氰基、(C1-C3)-烷基、卤素-(C1-C3)-烷基、(C3-C5)-环烷基、(C1-C3)-烷基硫基、(C1-C3)-烷基亚横酸基、(C1-C3)-烧基横酸基、(C1-C3)-烷氧基、卤素-(C1-C3)-烷氧基和(C1-C3)-烷氧基-(C1-C3)-烷基，或者R7和R8与它们连接于其上的碳原子一起形成形成单元-X1- (CH2) r-x2-、- (CH2)S-X3-、- (CH2) t-X3-CH2-、_ (CH2) V-X3-CH2CH2-或-(CH2) w_,其中每个所提及的(CH2)-基团被 m个选自下述的残基取代通素、甲基和(C1-C3)-烷...

【专利技术属性】
技术研发人员：A范阿尔姆西克，H阿伦斯，A克恩，S德纳里平，R布劳恩，I霍伊泽哈恩，CH罗辛格，I海内曼，E加茨韦勒，
申请(专利权)人：拜耳知识产权有限责任公司，
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