一种用于纳米压印的复合模板及其制备方法技术

本发明专利技术属于纳米压印技术领域，具体公开了一种用于纳米压印的复合模板及其制备方法，目的在于制作出一种尺度小、面积大、易于脱模、可重复使用的纳米压印模板。首先通过热压印制备弹性体薄膜；其次通过热压印在弹性体薄膜表面获得纳米结构；再通过PECVD的方法在该纳米结构上沉积一层二氧化硅渐变层；最后用氯硅烷进行防粘，从而制得复合模板。本发明专利技术的复合模板具有二氧化硅层，其较高的弹性模量保证了高的分辨率，而弹性较好的弹性体层提高了压印时与衬底贴合的紧密性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米压印
，具体涉及纳米压印中弹性体模板及其制备方法。
技术介绍
随着半导体产业的发展，对于图像转移的可靠性要求越来越高。当前，光刻技术已经在45nm节点形成了瓶颈；而电子束直写技术成本较高。另外一种微纳制造技术——纳米压印技术具有高产量、低成本、工艺简单的优点，从而受到广泛关注。在纳米压印技术中，作为压印图案最初载体的模板直接影响了压印结构的质量。只有高质量的模板才能保证高质量的压印图形。因此，如何制作出尺度小、面积大、易于脱模、可重复使用的模板是纳米压印技术研究的重要课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可用于纳米压印技术的质量优良的复合模板，以及一种制备该模板的方法，其制备过程简单、有效。本专利技术采用的技术方案如下:一种用于纳米压印的复合模板，包括弹性体的结构模板，在弹性体的结构模板上还依次制备有二氧化硅渐变层和防粘层。上述复合模板的制备方法，包括如下步骤:I)将弹性体通过热压印制成表面光滑平整的薄膜:a)称量一定质量的弹性体，将其置于两层洁净的PET薄膜之间，置于压印仪腔内，设置温度压强，通过热压使弹性体形成薄膜；b)将上一步初本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于纳米压印的复合模板，包括弹性体的结构模板，其特征在于，在弹性体的结构模板上依次制备有二氧化硅渐变层和防粘层。

【技术特征摘要】
1.一种用于纳米压印的复合模板，包括弹性体的结构模板，其特征在于，在弹性体的结 构模板上依次制备有二氧化硅渐变层和防粘层。2.如权利要求1所述一种用于纳米压印的复合模板的制备方法，包括如下步骤:1)将弹性体通过热压印制成表面光滑平整的薄膜:a)称量一定质量的弹性体，将其置于两层洁净的PET薄膜之间，置于压印仪腔内，设置 温度压强，通过热压使弹性体形成薄膜；b)将上一步初步成形的薄膜置于两片防粘硅片之间，再次通过热压形成光滑的弹性体 薄膜；2)通过镍模板的压印，在弹性体薄膜表面形成纳米结构:将弹性体弹性体与镍模板紧密贴合，置于压印仪腔内，使用热压印将镍模板上的纳米 结构转移到弹性体薄膜表面；3)在弹性体薄膜表面形成的纳米结构上沉积一层二氧化硅渐变层，形成复合结构；a)活化清洗基体表面:将基体置于等离子体装置腔室内...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈辉婷，胡昕，袁长胜，
申请(专利权)人：无锡英普林纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：