一种去除中药材表面二氧化硫残留的方法技术

本发明专利技术涉及一种去除中药材表面二氧化硫残留的方法，其特征在于步骤如下：（1）将中药材进行干燥处理；（2）检测干燥处理后的中药材表面二氧化硫残留含量；（3）针对检测出的二氧化硫残留含量，计算所需臭氧的用量；（4）将所需臭氧溶于纯化水，所述纯化水的用量为干燥处理后的中药材重量的9%-28%；（5）将步骤（4）中所得的臭氧水溶液均匀喷洒在干燥处理后的中药材的表面上，静置5-60分钟，静置的环境温度为大于4℃，小于16.8℃，然后晾干。本发明专利技术能在短时间内迅速有效地去除中药材的二氧化硫残留，还具有成本低、效率高、易操作和适合大规模生产的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
使用硫磺熏蒸是一些中药材产地粗加工过程中的一种常用方法，目的在于防霉、防腐和干燥等。为防止中药材粗加工过程中滥用或者过度使用硫黄熏蒸的问题，保证中药质量和安全有效，国家食品药品监督管理局组织制订了中药材及其饮片二氧化硫残留限量标准；国家药典委员会在2003年就已立项对中药材及饮片中的二氧化硫残留量测定方法和限量进行研究，其测定方法在2005年版《中国药典》增补本中开始收载。中国专利“一种去除中药材表面二氧化硫的方法”，申请号:201210117625.7，该专利申请采用微波发生器对中药材进行加热，然后进行抽湿降温处理，去除中药材表面二氧化硫残留的同时对中药材进行干燥和灭菌。该专利申请的去除SO2的方法属于物理处理方式。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供采用化学处理方式的。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案: ，其特征在于步骤如下: (1)将中药材进行干燥处理；` (2)检测干燥处理后的中药材表面二氧化硫残留含量； (3)针对检测出的二氧化硫残留含量，按下述化学反应式(I)计算所需臭氧的用量: 3S02+03=3S0本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种去除中药材表面二氧化硫残留的方法，其特征在于步骤如下：（1）将中药材进行干燥处理；（2）检测干燥处理后的中药材表面二氧化硫残留含量；（3）针对检测出的二氧化硫残留含量，按下述化学反应式（1）计算所需臭氧的用量：3SO2+O3=3SO3????????????（1）；（4）将所需臭氧溶于纯化水，所述纯化水的用量为干燥处理后的中药材重量的9%?28%；（5）将步骤（4）中所得的臭氧水溶液均匀喷洒在干燥处理后的中药材的表面上，静置5?60分钟，静置的环境温度为大于4℃，小于16.8℃，然后晾干。

【技术特征摘要】
1.一种去除中药材表面二氧化硫残留的方法，其特征在于步骤如下: (1)将中药材进行干燥处理； (2)检测干燥处理后的中药材表面二氧化硫残留含量； (3)针对检测出的二氧化硫残留含量，按下述化学反应式(I)计算所需臭氧的用量: 3S02+03=3S03(I)； (4)将所需臭氧溶于纯化水，所述纯化水的用量为干燥处理后的中药材重量的9%-28% ； (5)将步骤(4)中所得的臭氧水溶液均匀喷洒在干燥处理后的中药材的表面上，静置...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓恩，
申请(专利权)人：药都制药集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：