去除中药材表面二氧化硫残留的方法技术

本发明专利技术涉及一种去除中药材表面二氧化硫残留的方法，其特征在于步骤如下：（1）将中药材进行干燥处理；（2）检测干燥处理后的中药材表面二氧化硫残留含量；（3）针对检测出的二氧化硫残留含量，计算所需过氧化氢的用量；（4）将所需过氧化氢溶于纯化水，所述纯化水的用量为干燥处理后的中药材重量的9%-28%；（5）将步骤（4）中所得的过氧化氢水溶液均匀喷洒在干燥处理后的中药材的表面上，静置5-60分钟，静置的环境温度为大于4℃，小于16.8℃，然后晾干。本发明专利技术能在短时间内迅速有效地去除中药材的二氧化硫残留，还具有成本低、效率高、易操作和适合大规模生产的特点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种去除中药材表面二氧化硫残留的方法，其特征在于步骤如下：（1）将中药材进行干燥处理；（2）检测干燥处理后的中药材表面二氧化硫残留含量；（3）针对检测出的二氧化硫残留含量，按下述化学反应式（1）计算所需过氧化氢的用量：SO2+H2O2=SO3+H2O????????????（1）；（4）将所需过氧化氢溶于纯化水，所述纯化水的用量为干燥处理后的中药材重量的9%?28%；（5）将步骤（4）中所得的过氧化氢水溶液均匀喷洒在干燥处理后的中药材的表面上，静置5?60分钟，静置的环境温度为大于4℃，小于16.8℃，然后晾干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓恩，
申请(专利权)人：药都制药集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：