本发明专利技术提供一种具备提高反射性电极的反射率并且即使采用向液晶层施加交流电场的方式也不会发生烧焦等不良情况的电光学装置及具备该电光学装置的电子设备。在电光学装置(100)中，由于在像素电极(9a)(反射性电极)的上层形成有由多层电介质膜(低折射率层181和高折射率层182)构成的第一电介质层(18)，因此基于像素电极(9a)的反射率高。另外，由于在像素电极(9a)的上层形成有电介质多层膜，因此若在公共电极(21)的上层形成第二电介质层(28)，则能够使像素电极(9a)侧与公共电极(21)侧的功函数一致或使其近似，所以即使交流驱动液晶层(50)，也能在液晶层(50)中形成对称的电场。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种具备提高反射性电极的反射率并且即使采用向液晶层施加交流电场的方式也不会发生烧焦等不良情况的电光学装置及具备该电光学装置的电子设备。在电光学装置(100)中，由于在像素电极(9a)(反射性电极)的上层形成有由多层电介质膜(低折射率层181和高折射率层182)构成的第一电介质层(18)，因此基于像素电极(9a)的反射率高。另外，由于在像素电极(9a)的上层形成有电介质多层膜，因此若在公共电极(21)的上层形成第二电介质层(28)，则能够使像素电极(9a)侧与公共电极(21)侧的功函数一致或使其近似，所以即使交流驱动液晶层(50)，也能在液晶层(50)中形成对称的电场。【专利说明】电光学装置、电光学装置用基板及电子设备本申请是申请号为“200910173477.9”，申请日为2009年09月18日，专利技术名称为“电光学装置及电子设备”之申请的分案申请。
本专利技术涉及ー种反射型的电光学装置及具备该电气光学装置的电子设备。
技术介绍
在各种电光学装置中，反射型的液晶装置具有在隔着液晶层对置配置的ー对基板的一方形成有反射性电极、在另一方形成有透光性电极的结构，由反射性电极和透光性电极中的一方构成像素电极，由另一方构成公共电极。在该电光学装置中，作为反射性电极使用招系材料或银系材料等金属材料，作为透光性材料使用ITO (Indium Tin Oxide)等。这里，期望反射性电极的反射率高，但是在反射性电极的表面形成取向膜等高折射率层时，存在反射率减低的问题。因此，提出了在反射性电极的上层形成由多层电介质膜构成的高反射膜(參照专利文献I)。【专利文献I】:日本特开平11-2707号公报在电光学装置中，通过反射性电极和透光性电极向液晶层施加交流电场，但是在像素电极与公共电极中，由于功函数不相同，因此在液晶层中会被施加非対称的电场。例如，构成透光性电极的ITO的功函数约为5.0eV，相对于此，构成反射性电极的铝的功函数约为3.2eV。其结果，在电光学装置中长时间显示同一图案时易发生烧焦等不良情況。该不良情况即使像专利文献I所述的结构那`样在反射性电极的表面形成由电介质多层膜构成的高反射膜，也同样会发生。另外，以防止上述的烧焦为目的，大多会向施加在反射性电极和透光性电极的电压赋予偏移量来确保对称性，但是，会因为环境温度的变化或随时间的经过而导致平衡受到破坏。
技术实现思路
鉴于以上的问题，本专利技术的课题在于提供一种提高反射性电极的反射率，并且即使采用向液晶层施加交流电场的方式，也不会发生烧焦等不良情况的电光学装置及具备该电光学装置的电子设备。为了解决上述课题，本专利技术的电光学装置的特征在于，具有:相互对置的第一基板和透光性的第二基板；液晶层，其夹持在所述第一基板与所述第二基板之间；反射性电极，其设置在所述第一基板与所述液晶层之间，构成像素电极和公共电极之中的ー个；透光性电极，其设置在所述第二基板与所述液晶层之间，构成像素电极和公共电极之中的另ー个；第一电介质层，其设置在所述反射性电极与所述液晶层之间，由多个电介质膜构成；和第二电介质层，其设置在所述透光性电极与所述液晶层之间，由一层或多层电介质膜构成。本专利技术的电光学装置中，在反射性电极的上层形成有由多层电介质膜构成的第一电介质层，该第一电介质层作为高反射膜而起作用。因此，基于反射性电极的反射率高。因此，由于能够提高显示光量，所以能够进行明亮的显示。另外，在本专利技术中，利用在反射性电极的上层形成第一电介质层这一点，能够用简单的结构来防止交流驱动液晶层时的烧焦等。即，在本专利技术中，由于在反射性电极的上层形成有第一电介质层，因此，若在透光性电极的上层形成第二电介质层，则能够使反射性电极侧与透光性电极侧的功函数一致。因此，即使交流驱动液晶层，也能够在液晶层中形成対称的电场。因此，即使在电光学装置中长时间显示同一图案也不会发生烧焦。本专利技术中，优选所述第一电介质层中在最靠近所述液晶层ー侧设置的电介质膜与所述第二电介质层中在最靠近所述液晶层ー侧设置的电介质膜由相同材料形成。采用该结构时，由于能够使反射性电极侧与透光性电极侧的功函数一致，因此能够在液晶层中形成対称的电场。因此，即使在电光学装置中长时间显示同一图案也不会发生烧焦。在本专利技术中，优选所述第二电介质层由ー层电介质膜构成的结构。在透光性电极的表面形成第二电介质层时，若第二电介质层引起的电容小，则施加给液晶层的电压会变小。因此，若使第二电介质层为ー层电介质膜，则能够使第二电介质层引起的电容变大，因此能够抑制施加给液晶层的电压的降低。因此，即使提高驱动电压，也能很好地驱动液晶层。在本专利技术中，例如能够采用所述反射性电极为像素电极、所述透光性电极为公共电极的结构。另外，也可以采用所述反射性电极为公共电极、所述透光性电极为像素电极的结构。本专利技术中，能够在所述反射性电极中使用铝或铝合金等铝系材料、银或银合金等银系材料。在本专利技术中，从成本和蚀刻等加工的容易性的观点出发，所述反射性电极优选为招系材料。应用了本专利技术的电光学装置能够作为移动电话机或便携式计算机等电子设备而应用。另外，应用了本专利技术的电光学装置也能应用在作为电子设备的投射型显示装置中，该投射型显示装置具备用于向电光学装置提供光的光源部、投射被所述电光学装置光调制后的光的投射光学系统。【专利附图】【附图说明】图1是表示应用了本专利技术的反射型电光学装置的电气结构的方块图。图2(a)和(b)分别是从对置基板侧观察应用了本专利技术的反射型电光学装置的液晶面板和各构成要素的俯视图和其H-H'剖视图。图3(a)和(b)分别是应用了本专利技术的反射型电光学装置中使用的元件基板中的相邻的像素的俯视图和在相当于其A-A'线的位置处截断电光学装置时的剖视图。图4是在应用了本专利技术的电光学装置的制造方法中形成数据线、漏极电极和层间绝缘膜之后一直到形成用于形成像素电极的反射性导电膜为止的エ序剖视图。图5是在应用了本专利技术的电光学装置的制造方法中图案形成反射性导电膜井形成像素电极之后一直到形成第一电介质层为止的エ序剖视图。图6利用应用了本专利技术的电光学装置的电子设备的说明图。图中:9a-像素电极(反射性电极)；10-第一基板；18-第一电介质层；20-第二基板；21_公共电极(透光性电极)；28_第二电介质层；30_场效应型晶体管；50_液晶层；100-电光学装置；IOOa-像素；181-低折射率层；182_高折射率层。【具体实施方式】參照【专利附图】【附图说明】本专利技术的实施方式。另外，在反射型液晶装置(反射型电光学装置)中，像素电极和公共电极之中的一方由反射性电极构成，像素电极和公共电极之中的另ー方由透光性电极构成，但是在以下的说明中，以像素电极由反射性电极构成、公共电极由透光性电极构成时为中心进行说明。另外，在以下的说明中參照的图中，由于将各层或各部件设为在图面上能够识别的程度的大小，因此各层或各部件的缩尺不相同。而且，流过场效应型晶体管的电流的方向反转时源极与漏极会对调，但是在以下的说明中为了方便，将连接有像素电极的ー侧作为漏极，将连接有数据线的一侧作为源极来进行说明。(整体结构)图1是表示应用了本专利技术的反射型电光学装置的电结构的块图。如图1所示，电光学装置100具有液晶面板100p，液晶本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电光学装置，其特征在于，包含：第1基板；第2基板，其与所述第1基板对置地配置，使光透过；液晶，其配置在所述第1基板与所述第2基板之间；第1电极，其配置在所述第1基板与所述液晶之间，对光进行反射；第2电极，其配置在所述第2基板与所述液晶之间，使光透过；第1电介质层，其配置在所述第1电极与所述液晶之间；和第2电介质层，其配置在所述第2电极与所述液晶之间，所述第1电介质层，包含具有第1折射率的第1折射率层和具有比所述第1折射率大的第2折射率的第2折射率层，所述第1折射率层配置在所述第2折射率层与所述第1电极之间。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：川上泰，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：
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