基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够提高基板处理装置的处理能力的技术。基板处理装置（1）具有配置在清洗处理区（20）和分度器区（10）之间的连接部分的交接单元（30）。交接单元（30）具有：翻转用支撑部（701），其以水平姿势支撑基板（W）；输送支撑部（601a），其在上下方向上与翻转用支撑部（701）隔开间隔地配置，并且以水平姿势支撑基板（W）；夹持翻转机构（80），其使支撑在翻转用支撑部（701）上的基板（W）翻转，并且使翻转后的基板（W）再次支撑在翻转用支撑部（701）上。在此，支撑在输送支撑部（601a）上的基板（W）的一部分，配置在由夹持翻转机构（80）使基板（W）翻转的翻转区域M内。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及对多张基板进行处理的技术，上述基板是半导体基板、液晶显示装置 用玻璃基板、等离子显示器用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等(下面，仅称为 “基板”)。
技术介绍
具有对基板进行处理的各种基板处理装置。例如，在专利文献I的基板处理装置 中:利用基板交接部来连接分度器区和清洗处理区，其中，分度器区用于汇集未处理基板以 及已处理基板，清洗处理区用于对基板进行清洗处理。在分度器区及清洗处理区上分别配 置有各单元专用的搬送机械手。在这样的基板处理装置中，考虑到清洗基板的背面的情况，在装置内设置有使基 板的内外翻转的翻转部。例如，在专利文献I的基板处理装置的清洗处理区内配置有翻转 部。另外，在专利文献2中记载有翻转清洗单元，该翻转清洗单元使基板翻转并且清洗基板的背面。另外，在专利文献3、4中记载有在搬送机械手之间的中转部上使基板的内外翻转的结构。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2009-146975号公报专利文献2:日本特开平10-321575号公报专利文献3:日本特开2009-252888号公报专利文献4:日本专利第4287663号公报在搬送机械手之间的中转部上配置有使基板的内外翻转的翻转部的装置结构中，一个搬送机械手将基板搬入至翻转部，在使该基板翻转之后，将该基板搬出至另一个搬送 机械手。即，能够将使基板翻转的功能部用作在搬送机械手之间交接基板的交接部。根据 该结构，例如，与在仅由一个搬送机械手能够访问的位置上配置翻转部的装置结构相比，能 够减少搬送机械手的工序的数目。其结果，能够使基板处理装置的处理能力(through put) 提闻。另一方面，为了抑制基板处理装置的处理能力下降，需要尽量缩短各搬送机械手 的待机时间。例如，在搬送机械手要将基板搬入至交接部时，若交接部被基板占用，则该搬 送机械手必须等待由另一个搬送机械手从交接部搬出基板。为了尽量避免这样的情况，优 选在搬送机械手之间的中转部上设置多个交接部。但是，在基板逐渐被大型化的近几年中，使基板翻转所需的空间变大，伴随于此， 翻转部也逐渐被大型化。因此，例如，在中转部上层叠设置了所需的个数的交接部和翻转部 的情况下，随着翻转部的高度尺寸的增加，搬送机械手的手部的上下方向上的移动距离(行 程)增加，这些直接导致处理能力降低。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而做出的，其目的在于，提供一种能够提高基板处理装置 的处理能力的技术。第一方式的基板处理装置，具有:处理部，其具有对基板的表面进行清洗的表面清 洗部、对基板的背面进行清洗的背面清洗部、第一搬送机械手，分度器部，其具有第二搬送 机械手，该分度器部将未处理的基板递给上述处理部，并且从上述处理部接收已处理的基 板，交接单元，其配置在上述处理部和上述分度器部之间的连接部分上；上述交接单元具 有:第一支撑部，其将基板支撑为水平姿势，第二支撑部，其在上下方向上与上述第一支撑 部隔开间隔地配置，并将基板支撑为水平姿势，翻转机构，其使支撑在上述第一支撑部上的 基板翻转，并将翻转后的基板再次支撑在上述第一支撑部上；支撑于上述第二支撑部上的 基板的一部分，配置在由上述翻转机构翻转的基板的翻转区域内。第二方式为第一方式的基板处理装置，将未处理的基板从上述第二搬送机械手向 上述第一搬送机械手的交接，是利用上述第一支撑部和上述第二支撑部中的一个支撑部来 进行的。第三方式为第二方式的基板处理装置，将未处理的基板从上述第二搬送机械手交 接给上述第一搬送机械手的交接路径，是根据针对每个基板组分别设定的方案(recipe)， 来在经由上述第一支撑部的交接路径和经由上述第二支撑部的交接路径之间择一性地进 行切换的。第四方式为第一方式至第三方式中任一方式的基板处理装置，上述第二支撑部配 置在上述第一支撑部的上侧。第五方式为第二方式至第四方式中任一方式的基板处理装置，上述交接单元还具 有第三支撑部，该第三支撑部配置在上述第二支撑部的上侧，并且将基板支撑为水平姿势； 将已处理的基板从上述第一搬送机械手向上述第二搬送机械手的交接，是经由上述第三支 撑部来进行的。第六方式为第一方式至第五方式中任一方式的基板处理装置，该基板处理装置具 有多个上述第一支撑部；上述翻转机构使支撑在多个上述第一支撑部上的多个基板一并翻 转。根据第一方式，交接单元具有沿着上下方向隔开间隔配置的第一支撑部和第二支 撑部，因此能够通过第一支撑部和第二支撑部中的至少一个支撑部，来在第一搬送机械手 和第二搬送机械手之间交接基板，尤其在经由第一支撑部的情况下，能够在使基板翻转后 交接基板。这里，第二支撑部在利用翻转机构使基板翻转的翻转区域内支撑基板，因此能够 将交接单元的高度尺寸抑制得小。由此，能够缩短第一搬送机械手及第二搬送机械手的上 下方向上的移动距离，从而能够使处理能力提高。根据第二方式，利用第一支撑部和第二支撑部中的一个支撑部，来交接未处理基 板。根据该结构，不会产生将第一支撑部和第二支撑部同时用于交接未处理基板的状况，因 此能够可靠地避免支撑在第二支撑部上的基板和进行翻转的基板发生干涉。根据第三方式，将未处理基板从第二搬送机械手交接给第一搬送机械手的交接路 径，是根据针对每个基板组分别设定的方案，来在经由第一支撑部的交接路径和经由第二 支撑部的交接路径之间择一性地进行切换的。根据该结构，例如根据方案来选择仅对表面进行的处理或对两面进行的处理，从而使装置能够自动地选择交接路径并进行处理。根据第四方式，第二支撑部配置在第一支撑部的上侧。根据该结构，经由第二支撑部交接的未处理基板(即，未进行翻转而在保持表面朝向上侧的状态下交接的未处理基板) 的经过路径形成在翻转机构的上侧。因此，未处理基板的表面不易被翻转机构产生的颗粒等污染。根据第五方式，将已处理基板从上述第一搬送机械手交接给上述第二搬送机械手的处理，是经由配置在第二支撑部的上侧的第三支撑部来进行的。根据该结构，已处理基板的经过路径形成在未处理基板的经过路径的上侧，因此能够洁净地保持已处理基板的表面。根据第六方式，能够使多张基板一并翻转，因此能够使基板处理装置的处理能力良好。 【附图说明】图1是本专利技术的基板处理装置的俯视图。图2是沿着图1的A-A线观察的基板处理装置的图。图3是沿着图1的B-B线观察的基板处理装置的图。图4是交接单元的侧视图。图5是沿着图4的C-C线观察的交接单元的俯视图。图6是沿着图5的D-D线观察的交接单元的侧剖视图。图7是沿着图5的E-E线观察的交接单元的侧剖视图。图8是示出了翻转机构的重要部分的局部放大图。图9是用于说明基板翻转装置的动作的示意图。图10是用于说明基板的交接动作的示意图。其中，附图标记的说明如下:1基板处理装置，10分度器区，12移载机械手，20清洗处理区，22搬送机械手，30交接单元，40翻转部，50控制部，60支撑单元，70翻转支撑机构，80夹持翻转机构，601支撑部，601a输送支撑部，601b返送支撑部，701翻转用支撑部，100基板翻转装置，W 基板。【具体实施方式】下面，参照附图，对本专利技术的实施方式进行说明。下面的实施方式是将本专利技术具体 化的一个例子，该实施方式并不限定本专利技术的技术的范围。此外，在下面的说明中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具有：处理部，其具有对基板的表面进行清洗的表面清洗部、对基板的背面进行清洗的背面清洗部、第一搬送机械手，分度器部，其具有第二搬送机械手，该分度器部将未处理的基板递给上述处理部，并且从上述处理部接收已处理的基板，交接单元，其配置在上述处理部和上述分度器部之间的连接部分上；上述交接单元具有：第一支撑部，其将基板支撑为水平姿势，第二支撑部，其在上下方向上与上述第一支撑部隔开间隔地配置，并将基板支撑为水平姿势，翻转机构，其使支撑在上述第一支撑部上的基板翻转，并将翻转后的基板再次支撑在上述第一支撑部上；支撑于上述第二支撑部上的基板的一部分，配置在由上述翻转机构翻转的基板的翻转区域内。

【技术特征摘要】
2012.06.18 JP 2012-1371041.一种基板处理装置，其特征在于，具有:处理部，其具有对基板的表面进行清洗的表面清洗部、对基板的背面进行清洗的背面 清洗部、第一搬送机械手，分度器部，其具有第二搬送机械手，该分度器部将未处理的基板递给上述处理部，并且 从上述处理部接收已处理的基板，交接单元，其配置在上述处理部和上述分度器部之间的连接部分上；上述交接单元具有:第一支撑部，其将基板支撑为水平姿势，第二支撑部，其在上下方向上与上述第一支撑部隔开间隔地配置，并将基板支撑为水 平姿势，翻转机构，其使支撑在上述第一支撑部上的基板翻转，并将翻转后的基板再次支撑在 上述第一支撑部上；支撑于上述第二支撑部上的基板的一部分，配置在由上述翻转机构翻转的基板的翻转 区域内。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，将未处理的基板从上述第二搬 送机械手向上述第一搬送机械手...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤洋，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：