结构新颖的大行程高精度Z轴工作台制造技术

本实用新型专利技术公开一种结构新颖的大行程高精度Z轴工作台，包括有底座、第一支架、第二支架、活动支撑杆、工作台以及精密活动定位台；该第一支架和第二支架均设置于底座上；该活动支撑杆可上下活动地设于第一支架上，该活动支撑杆上固设有竖向延伸的光栅尺，该第一支架上设有光栅读数头；该精密活动定位台可上下活动地设置于第二支架上，该活动支撑杆的下端与精密活动定位台固定连接，针对该精密活动定位台设有驱动装置。藉此，通过将工作台的中心、光栅尺的中心、光栅读数头的中心以及精密活动定位台的中心设置在位于同一直线上，理论上可实现系统的零阿贝误差，以最大程度地减少了系统的阿贝误差，满足微纳米测量和微纳米加工要求。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种结构新颖的大行程高精度Z轴工作台，其特征在于：包括有底座、第一支架、第二支架、活动支撑杆、工作台以及精密活动定位台；该第一支架和第二支架均设置于底座上；该活动支撑杆可上下活动地设置于第一支架上，该活动支撑杆上固设有竖向延伸的光栅尺，该第一支架上设置有光栅读数头；该工作台固设于活动支撑杆的上端；该精密活动定位台可上下活动地设置于第二支架上，该活动支撑杆的下端与精密活动定位台固定连接，针对该精密活动定位台设置有带动精密活动定位台上下活动的驱动装置，该活动支撑杆和工作台随精密活动定位台同步上下活动；以及，该工作台的中心、光栅尺的中心、光栅读数头的中心以及精密活动定位台的中心位于同一直线上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：范伟，金花雪，余卿，叶瑞芳，
申请(专利权)人：华侨大学，
类型：实用新型
国别省市：