【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种垂直取向石墨烯表面修饰的集流体,其特征在于,所述的集流体的表面修饰一层垂直取向的石墨烯纳米片。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:薄拯,岑可法,严建华,王智化,池涌,
申请(专利权)人:浙江大学,
类型:发明
国别省市:
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