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本发明公开了一种垂直取向石墨烯表面修饰的集流体，所述的集流体的表面修饰一层垂直取向的石墨烯纳米片。本发明还公开了所述的垂直取向石墨烯表面修饰的集流体的制备方法，以碳源气体、不定型碳刻蚀气体、氩气组成的混合气体作为前驱物，采用等离子体增强化学...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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