【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本专利技术还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。【专利说明】本案是专利技术名称为“曝光装置及元件制造方法”，申请号为201010127815.8的专利技术专利的分案申请。
本专利技术涉及一种曝光装置及元件制造方法，透过投影光学系统与液体以使基板曝光。本案，根据2004年6月9日所申请的日本特愿2004-171115号而主张优先权，在此援引其内容。
技术介绍
半导体装置或液晶显示装置，将形成于光罩上的图案转印至感光性基板上，即所谓微影方法而制造。在此微影步骤所使用的曝光装置，具有用以支持光罩的光罩载台、与用以支持基板的基板载台，边逐次移动光罩载台与基板载台，边透过投影光学系统将光罩图案转印于基板...
【技术保护点】
一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：测量用以形成该液浸区域的液体的性质及成分中至少一者的测量装置；该测量装置，包含用以测量该液体中的全有机碳的测量器。
【技术特征摘要】
...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。