【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基于光源调制的掩模预对准系统，其特征在于，包括：光源单元，用于为所述系统提供预对准光束；至少一光源内调制单元，用于调制所述对准光束；掩模板及位于所述掩模板上的标记；一四象限传感器单元，用于接收所述调制后对准光束照射所述标记后的光强信号；一信号采集调理解调单元，用于采集所述光强信号；一掩模板运动及控制系统，根据所述光强信号调整所述掩模板的位置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：唐文力，王海江，王丽，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，上海微高精密机械工程有限公司，
类型：发明
国别省市：
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