一种碲化铋基热电器件及其制备方法技术

技术编号:9382823 阅读:202 留言:0更新日期:2013-11-28 01:02
本发明专利技术涉及一种碲化铋基热电器件及其制备方法,所述碲化铋基热电器件包括:碲化铋基质层、通过电弧喷涂、等离子喷涂、电镀或化学镀形成于所述碲化铋基质层上的减阻层、以及通过电弧喷涂依次形成于所述减阻层上的阻挡层、应力缓冲层、和电极层。本发明专利技术提供的碲化铋基热电器件具有低界面接触电阻率、高界面稳定性且工艺简单稳定的特点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种碲化铋基热电器件,其特征在于,包括:碲化铋基质层、通过电弧喷涂、等离子喷涂、电镀或化学镀形成于所述碲化铋基质层上的减阻层、以及通过电弧喷涂依次形成于所述减阻层上的阻挡层、应力缓冲层、和电极层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:柏胜强李菲吴汀黄向阳陈立东
申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
类型:发明
国别省市:

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