【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种高分子原位修饰的超顺磁性颗粒，其特征在于，所述超顺磁性颗粒由位于核心的四氧化三铁纳米粒子及包覆在其表面的PEG?PAA组成。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张欣，代凤英，钟砚琦，
申请(专利权)人：中国科学院过程工程研究所，
类型：发明
国别省市：
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