磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板技术

技术编号:9357392 阅读:76 留言:0更新日期:2013-11-21 00:40
本发明专利技术的目的在于提供能够得到平行度优良的磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质用玻璃基板的制造方法及平行度优良的磁记录介质用玻璃基板。本发明专利技术提供一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板,所述制造方法用于制造具有一对主平面、外周端面和内周端面的磁记录介质用玻璃基板,其特征在于,所述外周端面具有外周侧表面部和外周倒角部,所述磁记录介质用玻璃基板的制造方法具有使用两面研磨装置对保持在托板上的磁记录介质用玻璃基板的主平面进行研磨的主平面研磨工序,在通过所述主平面研磨工序进行研磨之前的磁记录介质用玻璃基板中,在所述外周端面上,在以所述磁记录介质用玻璃基板的圆心角计间隔15度而设置的总计24个外周端面测定位置处测定表面粗糙度Ra时,所述外周侧表面部的表面粗糙度Ra的最大值为0.5μm以下,且标准差为0.2μm以下。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法,用于制造具有一对主平面、外周端面和内周端面的磁记录介质用玻璃基板,其特征在于,所述外周端面具有外周侧表面部和外周倒角部,所述磁记录介质用玻璃基板的制造方法具有使用两面研磨装置对保持在托板上的磁记录介质用玻璃基板的主平面进行研磨的主平面研磨工序,在通过所述主平面研磨工序进行研磨之前的磁记录介质用玻璃基板中,在所述外周端面上,在以所述磁记录介质用玻璃基板的圆心角计间隔15度而设置的总计24个外周端面测定位置处测定表面粗糙度Ra时,所述外周侧表面部的表面粗糙度Ra的最大值为0.5μm以下,且所述外周侧表面部的表面粗糙度Ra的标准差为0.2μm以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:吉宗大介大塚晴彦
申请(专利权)人:旭硝子株式会社
类型:发明
国别省市:

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