磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质制造技术

本发明专利技术涉及一种磁记录介质用玻璃基板，其具有一对主表面、外周端面、内周端面，其中，在所述主表面上0.1～0.3μm的异物的附着数为0.007个/mm2以下，在所述磁记录介质用玻璃基板的整个表面上存在的铈量小于0.004ng/mm2，在所述外周端面上长径1.0μm以上的异物的附着数小于1.2个/mm2。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质。
技术介绍
在磁盘装置等中使用的圆盘形状的磁盘(以下，也称为磁记录介质。)主要使用铝合金基板。但是，近些年，随着要求高密度记录化，比铝合金基板硬、且记录头向基板表面的耐冲击性优异、平坦性、平滑性优异的玻璃基板成为主流。磁盘是在磁记录介质用玻璃基板上至少形成磁性层而成的。在磁盘的制造工序中，在磁记录介质用玻璃基板的主表面上存在异物的情况下，由于该异物而有时引起磁盘的读取不良及与入不良。·于是，在专利文献I中，公开有如下的玻璃基板在磁盘用玻璃基板的主表面，作为O. Ιμπι O. 6μηι大小且O. 5nm 2nm深度检测出的缺陷,在每24cm2中小于10个。专利文献I :日本特开2010 - 108592但是，如专利文献I的玻璃基板所述，即使是附着于玻璃基板主表面的异物少的基板，也具有在磁性膜等成膜前的清洗工序中主表面的异物量增加且发生磁盘的读取不良及写入不良的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供一种磁盘用玻璃基板，其抑制磁盘的读取不良及写入不良的发生。本专利技术提供一种磁记录介质用玻璃基板，其具有一对主表面、外周端面及内周端面，其中，在所述主表面上O. I O. 3 μ m的异物的附着数为O. 007个/mm2以下，在所述磁记录介质用玻璃基板的整个表面上存在的铈量小于O. 004ng/mm2，在所述外周端面上长径I.O μ m以上的异物的附着数小于I. 2个/mm2。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种抑制磁盘的读取不良及写入不良的发生的磁盘用玻璃基板。附图说明图I是用于说明本专利技术的玻璃基板的制造方法的磁记录介质用玻璃基板的构成的立体剖面图；图2是可在主表面研磨工序中使用的双面研磨装置的一例的示意性纵剖面图。标号说明I、玻璃基板2、主表面3、圆形孔4、外周端面5、外周侧面部6、外周倒角部7、内周端面8、内周侧面部9、内周倒角部11、双面研磨装置20、基台30、下平台40、上平台50、升降机构60、旋转传递机构具体实施例方式下面，参照附图说明本专利技术的实施方式。首先，说明磁记录介质用玻璃基板的构成。图I表示用于说明玻璃基板的构成的立体剖面图的例子。在图I中，磁记录介质用玻璃基板I呈在主表面2的中心具有圆形孔3的圆盘形状。磁记录介质用玻璃基板I的外周侧的侧面为外周端面4,圆形孔3的侧面为内周端面7。外周端面4包括相对于主表面2具有大致90度的角度的外周侧面部5、与主表面2和外周侧面部5相接的外周倒角部6。另外，内周端面7包括相对于主表面2具有大致90度的角度的内周侧面部8、与主表面2和内周侧面部8相接的内周倒角部9。这时，在磁记录介质用玻璃基板的主表面、内周端面及外周端面(以后，有时称为磁记录介质用玻璃基板的整个表面)存在的铈(Ce)量小于O. 004ng/mm2。这时，重要的是不仅将玻璃基板的主表面、而且将在玻璃基板的整个表面存在的铈量设定为小于O. 004ng/mm2以下。后面详细地说明的、在玻璃基板的端面研磨工序等中附着于玻璃基板的端面(内周端面及外周端面)的氧化铈等异物有时在磁盘制造工序的清洗工序(例如，成膜工序前的清洗工序)等中，在磁记录介质用玻璃基板的主表面蔓延，而再附着于磁记录介质用玻璃基板的主表面。但是，通过将磁记录介质用玻璃基板的整个表面上存在的铈量设定为小于O.004ng/mm2以下，能够降低铈向该主表面的蔓延、再附着，能够防止磁盘的读取不良及写入不良。在磁记录介质用玻璃基板的整个表面存在的铈(Ce)量更优选为O. 002ng/mm2以下。在磁记录介质用玻璃基板的整个表面存在的铈量可以使用例如ICP - MS等来测定。另外，在本专利技术的磁记录介质用玻璃基板的外周端面上长径Ι.Ομπι以上的异物的附着数小于I. 2个/mm2。通过将附着于外周端面的长径为I. O μ m以上的异物设定为小于I. 2个/_2，能够防止磁盘的读取不良及写入不良，能够制造可靠性更高的磁盘。在本专利技术中附着于外周端面的异物包括磨粒(例如，氧化铈、氧化锆、锆石、氧化铝、氧化硅素等)、玻璃屑(碎玻璃)、金属(例如，不锈钢、铁等)、有机物(例如，盒等的树脂、纤维、皮肤、细菌等)等。另外，在磁记录介质用玻璃基板的外周端面上长径为Ι.Ομπι以上的异物的附着数更优选I. O个/mm2以下,进一步优选O. 7个/mm2以下。此外，优选在本专利技术的磁记录介质用玻璃基板的外周端面上长径为O. 5μπι以上的异物的个数小于2. 7个/mm2，更优选为2. 5个/mm2以下，进一步优选为I. 8个/mm2以下。附着于磁记录介质用玻璃基板的外周端面的异物例如使用分析用的碳带等从外周端面捕集。之后，用扫描型电子显微镜(SEM)观察在碳带的表面补充的异物，可对异物的长径进行测定，对异物的个数进行计数。本专利技术的磁记录介质用玻璃基板的上述的铈量及异物的个数以每单位面积的量(或个数)进行规定，因此，不依存于磁记录介质用玻璃基板的尺寸。因此，在本实施方式中，以研磨后的磁记录介质用玻璃基板的尺寸成为外径为65mm、内径为20mm、厚度为O. 6mm的方式利用后述的形状赋予工序对玻璃原基板进行加工，但是，本专利技术不限定于这一点。外径为65mm、内径为20mm、厚度为O. 6mm的磁记录介质用玻璃基板的两主表面为6008. 2mm2、夕卜周侧面部为68. 4mm2、外周倒角部为86. 4mm2、内周侧面部为21. 0mm2、内周倒角部为26. 8mm2。 以下，对本专利技术的磁记录介质用玻璃基板的制造方法进行说明。本专利技术的磁记录介质用玻璃基板的制造方法中在玻璃基板的整个表面上存在的Ce量只要为小于O. 004ng/mm2就没有特别的限制。若列举一例，通常，磁记录介质用玻璃基板由如下工序等制造( I)将玻璃原基板加工成在中央部具有圆形孔的圆盘形状后，对内周侧面和外周侧面进行倒角加工的形状赋予工序；(2)研磨玻璃基板的外周端面的外周端面研磨工序；(3)研磨玻璃基板的内周端面的内周端面研磨工序；(4)研磨玻璃基板的上下两主表面的主表面研磨工序；(5)精密清洗玻璃基板并进行干燥的清洗工序。(2)外周端面研磨工序和(3)内周端面研磨工序先实施哪一工序都可以。另外，也可以在(2 )及(3 )的端面研磨工序的前后中的至少一方实施主表面的打磨(例如，游离磨粒打磨、固定磨粒打磨等)，还可以在各工序间实施玻璃基板的清洗(工序间清洗)、玻璃基板表面的蚀刻(工序间蚀刻)。在此所说的主表面的打磨为广义的主表面的研磨。另外，研磨工序也可以仅是I次研磨，也可以进行I次研磨和2次研磨，也可以在2次研磨之后进行3次研磨。在本专利技术中，磁记录介质用玻璃基板也可以是非晶形玻璃，也可以是结晶化玻璃，也可以是在玻璃基板的表层具有强化层的强化玻璃(例如，化学强化玻璃)。若列举一例，则在对磁记录介质用玻璃基板要求高的机械性强度的情况下，对玻璃基板的表层实施形成强化层的强化工序(例如，化学强化工序)。强化工序也可以在最初的研磨工序前、最后的研磨工序后、或各研磨工序间中的哪一个实施。另外，本专利技术的玻璃基板的玻璃原基板通过浮法、熔化法、再曳引法、冲压成形法等方法制成，但是，本专利技术不限于这些方法。下面，对上述的磁记录介质用玻璃基板的各制造工序列举一例，但是本专利技术不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质用玻璃基板，其具有一对主表面、外周端面及内周端面，其中，在所述主表面上0.1～0.3μm的异物的附着数为0.007个/mm2以下，在所述磁记录介质用玻璃基板的整个表面上存在的铈量小于0.004ng/mm2，在所述外周端面上长径1.0μm以上的异物的附着数小于1.2个/mm2。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：森重俊，大塚晴彦，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：