【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于信息记录介质的玻璃基质和应用该玻璃基质的信息记录介质。更具体地说,涉及一种用于信息记录介质的玻璃基质,该玻璃基质可以完全满足信息记录介质所需要的物理性能,而不包含砷和锑化合物(这类化合物通常被用作精炼剂但是对环境有害),以及涉及应用上述玻璃基质的信息记录介质。近年来,由于电子学技术的发展,特别地,以电脑为代表的信息技术,对信息记录介质例如磁盘、光盘和磁光盘的需要快速增长。电脑的磁存储器的主要部件等等是用于复现磁性记录资料的磁记录介质和磁头。已知作为磁记录介质的有软盘和硬盘。用于硬盘(磁盘)的基质材料包括铝基质、玻璃基质、陶瓷基质、碳基质等等。然而,事实上铝基质和玻璃基质的使用主要地取决于容量和用途。最近,笔记本式电脑的硬磁盘驱动器的尺寸在减小,而其磁性记录密度在增加,所以磁头的浮动间隙正在减小。因此磁盘基质的表面平滑度要求满足很高的精度。然而,铝合金的硬度低,如果使用高精度的研磨剂和抛光机抛光铝盘,那么抛光面经受塑性变形,所以它难以生产精度级别高于特定级别的平面。例如,即使用镍-磷镀覆铝合金的表面,也不可能生产平均表面粗糙度Ra为20埃或更少的表面。此外,随着硬磁盘驱动器的尺寸和厚度的减小,也强烈要求减小用于磁盘的基质的厚度。然而,因为铝合金强度低和刚性低,所以对于保持硬磁盘驱动器技术规范需要的预定强度,难以减少磁盘的厚度。在这种情况下,具有高强度、高刚性、高耐震强度和高表面光洁度的玻璃衬底已经开始用于磁盘。玻璃衬底在表面光洁度和机械强度方面是优良的,因此作为现在的和有前途的衬底引起了人们注意。因此已经研究了用作信息记录介质的玻 ...
【技术保护点】
一种用于信息记录介质的玻璃衬底,该玻璃衬底是由下列组成的玻璃形成的,该组成(mol%)含有35-70%的SiO↓[2]、0-15%的Al↓[2]O↓[3]、3-30%的Li↓[2]O+Na↓[2]O、1-45%的CaO、3-45%的CaO+MgO、和0.1-30%的TiO↓[2],且含有基于上述玻璃组分总量的0.0001-10mol%的氧化锡和/或氧化铈。
【技术特征摘要】
JP 1999-9-8 254165/991.一种用于信息记录介质的玻璃衬底,该玻璃衬底是由下列组成的玻璃形成的,该组成(mol%)含有35-70%的SiO2、0-15%的Al2O3、3-30%的Li2O+Na2O、1-45%的CaO、3-45%的CaO+MgO、和0.1-30%的TiO2,且含有基于上述玻璃组分总量的0.0001-10mol%的氧化锡和/或氧化铈。2.一种用于信息记录介质的玻璃衬底,该玻璃衬底是由具有下列组成(mol%)的玻璃形成的,该玻璃含有60-75%的SiO2、2-10%的Al2O3、8-20%的Li2O、3-15%的Na2O和2-10%的ZrO2,Na2O/ZrO2摩尔比率为0.1-8,和Al2O3/ZrO2摩尔比率为0.2-5,且含有基于上述玻璃组分总量的0.0001-10mol%的氧化锡和/或氧化铈。3.一种用于信息记录介质的玻璃衬底,该玻璃衬底是由含有SiO2-Al2O3-R2O的可化学增强玻璃形成的(其中R为碱金属),该玻璃含有总量为98mol%以上的SiO2、Al2O3和R2O,且含有基于上述玻璃组分总量的0.0001-10mol%的氧化锡和/或氧化铈。4.一种用于信息记录介质的玻璃衬底,该玻璃衬底是由具有下列组成(mol%)的玻璃形成的,该玻璃含有45-85%的SiO2、4-32%的Al2O3、8-30%的Na2O+Li2O(只要Li2O的数量不超过Na2O和Li2O总量的70%)和2-13%的ZnO、F2或两者(只要F2的量小于8%),(Li2O+Na2O)/Al2O3摩尔比率为2/3-4/1,SiO2、Al2O3、Na2O、Li2O、F2和ZnO总含量为至少90mol%,且含有基于上述玻璃组分总量的0.0001-10mol%的氧化锡和/或氧化铈。5.一种用于信息记录介质的玻璃衬底,该玻璃衬底是由具有下列组成(mol%)的玻璃形成,该玻璃含有35-65%的SiO2、5-25%的Al2O3、10-40%的MgO、5-15%TiO2、0.8-10%的Y2O3和0-3%的ZrO2,且含有基于上述玻璃组分总量的0.0001-10mol%的氧化锡和/或氧化铈。6.一种用于信息记录介质的玻璃衬底,该玻璃衬底是由具有下列组成(mol%)的玻璃形成的,该玻璃含有25-52%的SiO2、5-35%的Al2O3、0-7%的Li2O、15-45%的MgO、0-17%的Y2O3、0-25%的TiO2、0-8%的ZrO2、1-30%的CaO和0-5%的B2O3+P2O5,Y2O3、TiO2、ZrO2和CaO总含量为5-30mol%,且含有基于上述玻璃组分总量的0.0001-10mol%的氧化锡和/或氧化铈。7.一种用于信息记录介质的玻璃衬底...
【专利技术属性】
技术研发人员:桥本和明,渡边隆,
申请(专利权)人:保谷株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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