横向扩散金属氧化物半导体晶体管及其制作方法技术

技术编号:9336813 阅读:145 留言:0更新日期:2013-11-13 17:31
本发明专利技术公开了一种LDMOS,包括:一P型衬底、一N型外延层;位于该N型外延层中的一P阱;位于该P阱中的一第一N型掺杂区域;穿过该第一N型掺杂区域、该P阱、该N型外延层且直至该P型衬底的一沟槽,该沟槽的侧壁上具有第一氧化层,该沟槽中填充有P型掺杂的第一多晶硅,该第一多晶硅的上表面位于该P阱内且低于该第一N型掺杂区域;一第一金属层,该第一金属层覆盖于该第一多晶硅的上表面上以及覆盖于该第一N型掺杂区域上;和位于该P型衬底背面上的一源极金属层。本发明专利技术还公开了一种LDMOS的制作方法。本发明专利技术将原本正面引出的源极从衬底背面引出,有效减小原源极区在正面的设计面积,增大栅极区沟道的设计宽度,降低了导通电阻。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种横向扩散金属氧化物半导体晶体管,其特征在于,其包括:一P型衬底以及位于该P型衬底表面上的一N型外延层;位于该N型外延层中的一P阱;位于该P阱中的一第一N型掺杂区域;穿过该第一N型掺杂区域、该P阱、该N型外延层并且直至该P型衬底的一沟槽,该沟槽的侧壁上具有第一氧化层,该沟槽中填充有P型掺杂的第一多晶硅,该第一多晶硅的上表面位于该P阱内且低于该第一N型掺杂区域;一第一金属层,该第一金属层覆盖于该第一多晶硅的上表面上以及覆盖于该第一N型掺杂区域上;以及,位于该P型衬底背面上的一源极金属层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:纪刚顾建平
申请(专利权)人:上海韦尔半导体股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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