【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具有：腔室；基板保持旋转单元，在上述腔室内将基板保持为水平，并使该基板围绕穿过该基板的铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给单元，向被上述基板保持旋转单元保持的基板的中央部喷出处理液；温度测定单元，测定上述腔室内的气温以及从上述处理液供给单元喷出的处理液的温度中的至少一个；温度调整单元，对上述腔室内的气温以及从上述处理液供给单元喷出的处理液的温度中的至少一个进行变更；存储单元，存储有示出气温和处理液的温度之间的对应关系的映射图，该对应关系被设定为，与某气温对应的处理液的温度低于该气温；温度控制单元，基于上述温度测定单元的测定值和上述映射图，来设定上述腔...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：三浦淳靖，石井弘晃，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：
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