【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
等离子刻蚀设备的基片定位升降装置，其特征在于：包括固定于反应腔体的下电极，设置于下电极上的基片卡盘，承接片盘的顶针升降机构和使基片精确定位的压环升降机构；压环升降机构包括底座，活动板，压紧环和连接活动板与压紧环的升降杆，以及带动活动板升降的压环升降驱动装置；升降杆与导向其升降的导向机构连接，压环升降驱动装置固定于底座上；压环升降驱动装置使压紧环将基片压紧于基片卡盘上；顶针升降机构包括托持基片的顶针，与顶针下端固定连接的基座和顶针升降驱动装置，顶针升降驱动装置固定于下电极上，顶针升降驱动装置的输出轴与基座固定连接，顶针穿出所述的下电极。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张钦亮，平志韩，苏静洪，王谟，陈骝，
申请(专利权)人：天通吉成机器技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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