离子束均匀性的检测方法技术

技术编号:9277745 阅读:78 留言:0更新日期:2013-10-24 23:56
本发明专利技术涉及一种离子束均匀性的检测方法,包括下列步骤:获取离子注入机台检测离子束的取点位置在晶圆上的对应位置;采用所述离子注入机台对晶圆进行离子注入;测量所述对应位置的电阻值;根据所述电阻值判断离子束均匀性是否达标。本发明专利技术通过检测与离子注入机台检测离子束的取点位置在晶圆上对应位置的测量点的电阻值,以判断注入晶圆的离子的均匀性,能够准确反映注入晶圆内的离子均匀性的变化,以及离子注入制程的过程中离子均匀性的变化。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种离子束均匀性的检测方法,包括下列步骤:获取离子注入机台检测离子束的取点位置在晶圆上的对应位置;采用所述离子注入机台对晶圆进行离子注入;测量所述对应位置的电阻值;根据所述电阻值判断离子束均匀性是否达标。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:阳厚国
申请(专利权)人:无锡华润上华科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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