薄膜晶体管、阵列基板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:9213322 阅读:151 留言:0更新日期:2013-09-27 00:47
本实用新型专利技术提供一种薄膜晶体管、阵列基板和显示装置,所述薄膜晶体管包括:基板、栅电极、有源层、源漏电极、像素电极及一个或多个绝缘层,其中,至少一个绝缘层包括底层绝缘层及上层绝缘层,所述上层绝缘层中的氢含量高于所述底层绝缘层中的氢含量。本实用新型专利技术采用双层刻蚀阻挡层工艺制作薄膜晶体管,有效地降低了刻蚀阻挡层的氧化硅薄膜中的氢含量,避免硅烷分解产生的氢离子与有源层中的金属氧化物反应,使氧化物薄膜晶体管保持较优的特性,并提高了刻蚀阻挡层的薄膜沉积速率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种薄膜晶体管,包括:基板、栅电极、有源层、源漏电极、像素电极及一个或多个绝缘层,其特征在于,至少一个绝缘层包括底层绝缘层及上层绝缘层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:谢振宇徐少颖李田生阎长江李靖田宗民
申请(专利权)人:北京京东方光电科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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