【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种阵列基板，包括：基板；形成于所述基板上的栅线和栅电极；覆盖所述栅线和栅电极的第一绝缘层；形成于所述栅绝缘层之上的像素电极、数据线、源电极和漏电极；覆盖所述像素电极、数据线、源电极和漏电极的第二绝缘层；形成于所述绝缘层之上的公共电极；其特征在于，所述第二绝缘层包括被所述公共电极覆盖的第一部分和未被所述公共电极覆盖的第二部分，所述第一部分的顶部相对于所述基板的第一高度高于所述第二部分的顶部相对于所述基板的第二高度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡明，林炳仟，张新霞，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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