平面磁控ECR‐PECVD等离子源装置制造方法及图纸

技术编号:9181909 阅读:189 留言:0更新日期:2013-09-20 04:04
本实用新型专利技术公开了一种平面磁控ECR-PECVD等离子源装置,包括真空腔室、微波谐振腔、微波天线、微波波导以及微波发生器,其中,所述微波谐振腔设置在真空腔室的内部,所述微波天线装配在微波谐振腔内,并轴向贯穿微波谐振腔内,所述真空腔室外侧的两端分别设有微波发生器,所述两个微波发生器分别通过微波波导与微波天线的两端相连接,所述真空腔室与微波谐振腔之间设有平面磁控板,待镀膜样品设置在微波谐振腔和平面磁控板之间;所述微波谐振腔内设有若干气体喷射管。本实用新型专利技术的平面磁控板使用硬磁材料产生平面磁场,起到增强反应气体的电离效率,提高镀膜均匀性的作用,兼具高镀膜速率、高膜层均匀性的优点,适用于各种薄膜的镀制。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种平面磁控ECR?PECVD等离子源装置,其特征在于,包括真空腔室、微波谐振腔、微波天线、微波波导以及微波发生器,其中,所述微波谐振腔设置在真空腔室的内部;所述微波天线装配在微波谐振腔内,并轴向贯穿整个微波谐振腔;所述真空腔室外侧的靠近两端部处分别设有微波发生器,所述两个微波发生器分别通过微波波导与微波天线的两端相连接;所述真空腔室与微波谐振腔之间设有平面磁控板,待镀膜样品设置在微波谐振腔和平面磁控板之间;所述微波谐振腔内还设有若干气体喷射管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:夏世伟吴长川
申请(专利权)人:上海君威新能源装备有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1