【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种金属互连结构，包括：用于电连接的导电栓/互连导线；以及设置在导电栓/互连导线的至少一部分表面上的扩散阻挡层，其中，所述扩散阻挡层包括绝缘非晶碳。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马小龙，殷华湘，赵利川，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。