烧结体溅射靶制造技术

本发明专利技术涉及一种烧结体溅射靶，含有Cr、Co作为金属成分，并且包含分散在该金属成分的基质中的氧化物，其特征在于，该溅射靶的组织在金属基质中具有在Co中分散有Co氧化物的区域（A）和在该区域（A）的周缘的含有Cr氧化物的区域（D）。本发明专利技术还涉及所述烧结体溅射靶的制造方法，将Co粉末、Cr粉末与将在Co中分散有Co氧化物的烧结体粉碎而得到的粉末混合而得到的混合粉末加压烧结，由此得到该组织。本发明专利技术的课题在于提供残留必要量的Co氧化物、溅射时的粉粒产生少、具有充分的烧结密度的溅射靶。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤敦，中村祐一郎，
申请(专利权)人：吉坤日矿日石金属株式会社，
类型：
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