强磁性材料溅射靶制造技术

一种强磁性材料溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、Pt为5摩尔%以上、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶具有金属基质（A）以及在所述（A）中的、含有40～76摩尔%Pt的Co-Pt合金相（B）和与所述相（B）不同的Co或以Co作为主要成分的金属或合金相（C）。本发明专利技术得到提高漏磁通、利用磁控溅射装置可以稳定放电的强磁性材料溅射靶。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒川笃俊，池田祐希，
申请(专利权)人：吉坤日矿日石金属株式会社，
类型：
国别省市：