强磁性材料溅射靶制造技术

技术编号:9064187 阅读:147 留言:0更新日期:2013-08-22 03:27
一种强磁性材料溅射靶,其为包含Cr为20摩尔%以下、Ru为0.5摩尔%以上且30摩尔%以下、其余为Co的组成的金属的溅射靶,其特征在于,该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的、含有35摩尔%以上Ru的Co-Ru合金相(B)。本发明专利技术得到提高漏磁通、利用磁控溅射装置可以稳定放电的强磁性材料溅射靶。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:荒川笃俊池田祐希
申请(专利权)人:吉坤日矿日石金属株式会社
类型:
国别省市:

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