Fe-Pt型强磁性材料溅射靶及其制造方法技术

一种强磁性材料溅射靶，其为Pt为5～50摩尔%、SiO2为5～15摩尔%、Sn为0.05～0.60摩尔%、其余为Fe的组成的溅射靶，其特征在于，在分散在金属基质(A)中的SiO2的粒子(B)中含有所述Sn。本发明专利技术得到能够抑制溅射时导致粉粒产生的氧化物的异常放电的非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：池田祐希，高见英生，
申请(专利权)人：吉坤日矿日石金属株式会社，
类型：
国别省市：