双层透明导电膜制造技术

技术编号:9077547 阅读:131 留言:0更新日期:2013-08-22 12:53
一种双层透明导电膜,包括第一基底;第一压印胶层,设于第一基底上,第一压印胶层上设有第一网线状沟槽,第一网线状沟槽形成第一网格;第一导电层,包括填充在第一网线状沟槽的导电材料;增粘层,设于第一压印胶层上;第二基底,设于增粘层上;第二压印胶层,设于第二基底上,第二压印胶层上设有第二网线状沟槽,第二网线状沟槽形成第二网格,第一网格和第二网格中其中之一为规则网格,另一个网格为随机网格,第二导电层,包括填充在第二网线状沟槽的导电材料。由于一个网格为随机网格,另一个为规则网格,无对准精度要求,生产效率得到较大的提高。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及导电薄膜,特别是涉及一种双层透明导电膜
技术介绍
透明导电膜是一种既具有高的导电性,又对可见光有很好的透光性的优良性能的导电膜,具有广泛的应用前景。近年来已经成功应用于液晶显示器、触控面板、电磁波防护、太阳能电池的透明电极透明表面发热器及柔性发光器件等领域中。一般制备透明导电膜的方法需要采用曝光、显像、蚀刻和清洗工序对透明导电膜进行图形化,然后根据图形在基底的表面形成导电区域和透光区域。或者采用印刷法直接在基底上的特定的图形区域形成金属网格。双层导电膜中的金属网格对薄膜的光电性能起决定作用,它要求具有良好的导电性能,同时还需要具有高的可见光透过率和红外反射率。双层透明导电膜需要在叠加或设计的过程中,将上下层的网格对准,用以来避免不良的光学现象以及网格区域间的配色差异。因此双层导电膜的对准精度要求比较高,一般情况在10 μ m,才能避免不良的光学现象并保证高透光性,这样在生产中由于对准精度要求比较高,所以对设备和操作的要求也同样有了比较高的要求。
技术实现思路
基于此,有必要提供能降低对准精度要求并具有较高的透光性的双层透明导电膜。一种双层透明导电膜,包括:第一基底;第一压印胶层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双层透明导电膜,其特征在于,包括第一基底;第一压印胶层,设于所述第一基底上,所述第一压印胶层上设有第一网线状沟槽,所述第一网线状沟槽形成第一网格;第一导电层,包括填充在所述第一网线状沟槽的导电材料;增粘层,设于所述第一压印胶层和所述第一导电层上;第二基底,设于所述增粘层上;第二压印胶层,设于所述第二基底上,所述第二压印胶层上设有第二网线状沟槽,所述第二网线状沟槽形成第二网格,所述第一网格和第二网格中其中之一为规则网格,另一个为随机网格;及第二导电层,包括填充在第二网线状沟槽的导电材料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:周菲高育龙曹淼倩顾滢
申请(专利权)人:南昌欧菲光科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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