显影剂和其用于制备平版印刷版的用途制造技术

一种可用于由阴图制版前体制备平版印刷版的显影剂溶液。所述显影剂溶液具有至少4并至多且包括11的pH。它还既包含乙烯/丙二醇嵌段共聚物，又包含糖醇和/或单糖或低聚糖两者中的一者或两者。组份的这个组合提供期望的处理以提供可用于印刷而没有用其它溶液的任何后显影处理的平版印刷版。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及水性显影剂和其用于由阴图制版平版印刷版前体制备平版印刷版的方法。
技术介绍
在平版印刷中，吸墨区域(称为图像区域)在亲水性表面上产生。当表面由水润湿和施加油墨时，未水性区域保留水而排斥油墨，吸墨区域接受:油墨而排斥水。随后将油墨转移至要在其上再现图像的适宜材料的表面。在一些情况下，油墨可以首先转移至中间转印布，该中间转印布接着用于将油墨转移至要在其上再现图像的材料的表面。适用于制备平版(或胶印)印刷版的平版印刷版前体通常包含施加在基材(或中间层)的亲水性表面上的一个或更多个可成像层。所述可成像层可以包含分散在适宜粘结剂内的一种或更多种辐射敏感组份。在成像之后，所述可成像层的曝光区域或未曝光区域由适宜的显影剂去除，从而露出基材的下层亲水性表面。如果曝光区域被去除，则认为元件是阳图制版的。相反，如果未曝光区域被去除，则认为元件是阴图制版的。在每种情况下，保留的可成像层的区域是吸墨的，而由显影过程露出的亲水性表面的区域接受水或水溶液(通常是润版液)并排斥油墨。已知“激光直接成像”方法(Laser direct imaging; LDI)使用来自计算机的数字数据直接形成胶印印刷版或印刷电路板，并提供超越使用掩蔽照相膜的先前方法的许多优点。此领域中已有了相当的发展，如更有效的激光器、改进的可成像组合物和其组份。已知不同的辐射敏感组 合物用于阴图制版平版印刷版前体，如例如在以下文献中所描述:美国专利 6，309，792 (Hauck 等人)、6，893，797 (Munnelly 等人)、6，727，281 (Tao等人)、6，899, 994 (Huang等人)和7，429, 445 (Munnelly等人)，美国专利申请公布2002/0168494 (Nagata 等人)、2003/0118939 (West 等人)和欧洲公布 I, 079，276 A2 (Lifka等人)和 I, 449，650A2 (Goto 等人)。成像后，阴图制版平版印刷版前体经显影(处理)以去除可成像层的未成像(未曝光)区域。简化的处理溶液已发展成为用于在印刷之前接触前体的唯一溶液。例如，美国专利申请公布2009/0263746 (Ray等人)描述具有2至11的pH并含有阴离子型表面活性剂的单一处理溶液显影成像的前体以及在印刷表面上提供保护性涂层的用途。处理溶液能够以本领域已知的不同方式施加，所述方式包括喷雾、喷射、浸润、浸没、涂布和擦拭技术。多余的处理溶液可以收集在储罐中并重复使用，并补充以具有相同形式或更浓缩形式的“新鲜”处理溶液，其可以用水稀释。在平版印刷工业中，已有对成像的平版印刷版的简单处理的关注。通过“简单处理”，意思指处理(显影)发生在一种浴中，在该浴中，图像印刷版前体同时显影和涂胶，而没有任何预洗涤、后清洗或另外的涂胶步骤。尽管简单处理听起来容易，实则不然。为基于使用可以在一个批次中处理的光聚合物的阴图制版成像化学设计这样基于计算机至版应用的系统是巨大挑战。另一方面，多年来已知单浴显影用于模拟印刷版(使用图形技术膜成像的印刷版)，但对于用在数字印刷版应用上它们一般太缓慢。对于简单处理而言最具挑战性的方面是:显影和涂胶必须发生在一个步骤中而无需任何预洗涤、后清洗或另外的涂胶步骤，即使用高加载量的显影剂也容易在机重启，即使用高加载量的显影剂也拥有成像区域的良好吸墨性能，即使用高加载量的显影剂也在若干天的存储之后获得非成像区域内的洁净版评价从而证明有效涂胶，即，在若干天的存储之后印刷版中没有后显影(表明对处理化学品的高耐化学性)，并且在较低的PH下处理而不耗用二氧化碳。因此，在本工业中存在对在单显影剂浴中处理阴图制版平版印刷版而在印刷前无需更多处理步骤的方法的需求。专利技术简述 本专利技术提供用于处理成像阴图制版平版印刷版前体的水性显影剂组合物，该显影剂具有至少4并至多且包括13的pH，并且包含以下(a)和(b)两者: (a)至少I重量％的量的至少一种乙二醇/丙二醇嵌段共聚物，和 (b)至少I重量％的总量的选自由以下(i)、(ii)和(iii)组成的组的一种或更多种化合物: (i)具有式H(HCHO)n+1H的至少一种非还原糖醇，其中η为5或6， (ii)具有式H(HCHO)nHCO的至少一种非还原单糖，其中η为5或6，和 (iii)具有式H(HCHO)nHCO的至少一种非还原低聚糖，其中η为5或6。本水性显影剂组合物可以在提供平版印 刷版的本专利技术的方法中使用，该方法包含: Α)成像曝光具有亲水性基材和安置在该亲水性基材上的可成像层的阴图制版平版印刷版前体，以在成像曝光前体的可成像层中提供曝光区域和未曝光区域，该可成像层包含自由基可聚合组份、在成像曝光之后提供自由基的引发剂组合物、辐射吸收化合物和聚合物粘结剂，和 B)在有或没有预热步骤的情况下，用本专利技术的水性显影剂组合物处理成像曝光前体，以去除可成像层中的未曝光区域。本专利技术还提供试剂盒，该试剂盒包含:具有亲水性基材和安置在该亲水性基材上的可成像层的一个或更多个阴图制版平版印刷版前体，和本专利技术的水性显影剂组合物，该可成像层包含自由基可聚合组份、在成像曝光之后提供自由基的引发剂组合物、辐射吸收化合物和聚合物粘结剂。在一些实施方式中，这种试剂盒含有具有至少4并至多且包括11的PH并且不含硅酸盐和正硅酸盐的水性显影剂组合物。本专利技术提供用于简单处理方法的水性显影剂，在该方法中，不需要与另外的处理溶液(诸如清洗溶液和涂胶溶液)的进一步接触。因此，单一显影步骤被用作针对红外和紫外成像前体的整个处理过程。使用本专利技术的水性显影剂实现了这些优点，该水性显影剂包含至少两种特定组份:(a)至少I重量％的量的乙二醇/丙二醇嵌段共聚物，和(b)具有5或6个碳原子链长的糖醇或至少I重量％的量的单糖或低聚糖。仅具有组份(a)或(b)的显影剂不实现与组份的组合相同的结果。 专利技术的详细说明 定义除非上下文另外指明，否则当在本文中使用时，术语“阴图制版平版印刷版前体”、“平版印刷版前体”、“印刷版前体”和“前体”意味着参考使用本专利技术处理的元件。同样，除非上下文另外指明，否则当在本文中使用时，术语“水性显影剂”、“显影齐U”、“处理溶液”、“水性显影剂组合物”和类似术语意味着参考本专利技术的实施方式。此外，除非上下文另外指明，否则本文描述的各种组分如“红外吸收化合物”、“红外辐射吸收化合物”、“引发剂”、“共同引发剂”、“自由基可聚合组份”、“聚合粘结剂”和下面描述的各种显影剂组份也涉及此类组份的混合物。因此，使用冠词“a”、“an”和“the”不一定意味着仅涉及单一组份。此外，除非另外指明，否则百分比是指总干重的百分数，例如，基于可成像层或辐射敏感组合物的总固体的重量％。除非另外指明，否则对于干燥的可成像层或辐射敏感组合物的总固体百分比可以是 相同的。当涉及如下所述显影剂时，重量％—般基于包括水和存在的任何其它溶剂的总显影剂重量。对于任何关于聚合物的术语的定义说明，应参考理论和应用化学国际组织(International Union of Pure and Applied Chemistry) (“IUPAC”)出版的“Glossaryof Basic Terms in本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：B施特勒梅尔，O皮斯特尔特，H鲍曼，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：
国别省市：