食品以及用于烘焙的方法和设备技术

提供了一种炉和可选的烹饪配件，其在包括金属或陶瓷的基底表面上具有高辐射热保护层。所述层包括：大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】食品以及用于烘焙的方法和设备
技术介绍
炉和在炉中制作的食品已经公知了几千年。烘焙包括面包在内的食品已经存在几千年。存在许多不同种类的用于烹饪和烘焙的炉。家用炉包括传统炉和对流炉和较小的器具例如多士煽炉等。商用炉包括在餐馆中使用的那些炉和在广泛的商业食品生产中使用的那些炉。用于餐馆的炉包括转炉、搁架式炉、对流炉、多层柜式炉、披萨炉、蒸汽管炉等。用于商业食品生产的炉包括直接燃烧式隧道炉、钢带炉、钢板炉、皮塔饼炉、直接燃烧托盘式炉、间接燃烧式隧道炉和冲击式炉等。所有这些炉在本领域中是众所周知的，且对于它们的特殊的用户或商业场合具有许多优点。炉直接地或间接地被加热。热源可以是气体、油、电或其他可燃材料。炉中的热量可通过电的方式或通过使用可燃流体产生。商用烹饪炉壁的壁通常是金属的，但也可被涂覆或以分层的方式设有反射或折射材料，包括不粘层和瓷料。在所有情况下，令人满意的多士煽炉难以制造。遍布大部分炉(不管是消费的还是商用的)的内部烹饪区域产生“热点”和“冷点”，这使得热量非均匀地施加到被烘焙的食品，且降低了产量。已经做出多种努力试图通过提供相对于加热元件连续地移动正在烹饪的食品的转动支撑件、带和辊子来消除商用中的这种问题。而且，已经做出多种努力试图通过改变炉的壁中使用的材料以及通过利用被设计用于主动地调节炉内的热特性的控制器针对地监测温度来消除消费炉中的与预热麻烦和炉清洁相关的非均匀加热问题。类似的主动控制器也可用在商用场合中。然而，商用和消费家用的传统炉的烹饪区域内的非均匀热量的问题依然存在。在大部分的炉中生产的烘焙食品中的一些不可避免地被非均匀地烹饪，且在商用场合，这可产生非均匀烹饪的食品和/或由于欠烹饪或过烹饪而大致食品损失。期望获得在整个内部烹饪区域或烹饪区均提供一致的热量的炉。期望提供均匀加热的烹饪区域来最少化必须丢弃的已被制作的食品的量。过去已经做出多种努力来试图解决这种问题。已经获知炉内表面的辐射效应影响烹饪过程。美国专利申请N0.2010/006, 559公开了一种消费炉，其具有设有不同的涂层的元件，所述不同的涂层具有变化的辐射特性，可选地包括陶瓷涂层，其被设计成便于在一侧烘焙、在另一侧烧炙。在现有技术中已知具有期望的辐射特性的烹饪盘、尤其是包括微波烹饪容器的使用。通常，这种专利技术已经涉及简单的暗漆、表面碳化、瓷料或陶瓷表面。作为一个例子，1963年2月19日授权的美国专利N0.3，078，006公开了一种被涂覆有硅树脂的金属烘焙模架，其具有不粘特性和改善的辐射热吸收特性，其中，少量的碳被包含在硅树脂涂层中。尽管进行了商业努力，但在该炉中烘焙的饼干片根据它们在烹饪区域内的位置通常导致一些饼干相对于其他饼干被更多地烹饪，不管使用的盘如何。已知控制在烘焙过程中炉内的热环境的努力和具有期望的热特性的盘。还已知提供了部分地通过具有多个烹饪区操作的炉。一些炉的壁已被覆盖有陶瓷、瓷料、铝、暗漆等，以在烹饪区域内产生期望的温度或便于清洁炉的侧面。其他炉简单地具有暴露的金属表面。类似地，烹饪盘已被修改，以产生期望的热特性和便于清洁盘的烹饪区域。简单的金属搁架、金属辊子和金属输送带通常用于配备有相应的搁架、辊子、带的商用炉中。2004年11月16日授权的美国专利N0.6，818，869公开了一种多面板或多层柜式炉，其采用单独控制来组合传导和辐射加热面板，且提供了在各种面板之间具有1-5个不同的烹饪区的选项。2001年5月8日授权的美国专利N0.6，229，117公开了一种面包返鲜炉，其具有内衬，该内衬是回弹的熔融氧化硅泡沫，且成非多孔陶瓷的形式的熔融氧化硅制成的托盘与该炉一起使用。1979年8月14日授权的美国专利N0.4，164，643公开了一种能量高效的双辐射炉系统，其中，公开了具有E=0.79的辐射率的黑色涂覆的铝盘；然而，在该系统中使用的炉具有炉衬，该炉衬具有高反射性金属和E=0.05水平上的辐射率值。迫切期望获得具有均匀的热分布的能量高效的炉。仍存在由于非均匀和不可预测的炉性能而导致食物损失的问题。期望具有这样一种炉，该炉将在烹饪区内均匀地加热，以可靠地和一致地产生大批量的相同的被烹饪的食品。
技术实现思路
本设计涉及食品和一种用于烹饪、尤其是烘焙食品的方法和设备。具体地讲，本设计涉及一种用于在这样的炉中烹饪食品的方法或过程和由此生产的食品，所述炉具有高辐射热保护层，所述高辐射热保护层设置在炉的金属和陶瓷内表面上，所述炉具有设置在其金属内表面上的高辐射热保护层。根据本设计的炉具有壳体，所述壳体包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区。传统加热装置被提供用于加热所述区，且可包括气体燃烧器或油燃烧器、电阻线圈、蒸汽管等。在炉内邻近加热区处设置至少一个衬底表面，包括顶部、底部、壁、加热装置、面板、门等，具有设置在其上的高辐射热保护层。用于金属表面的高辐射热保护层具有大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。用于陶瓷表面的高辐射热保护层具有大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的填料，和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。根据本设计的在用于制作被烹饪的食品的过程中使用的炉烹饪配件包括盘、烹饪片、搁架等。烹饪配件具有用于与食物接触的烹饪表面、和与烹饪表面相反的外侧表面，在烹饪配件的外侧表面上设置有高辐射热保护层。替代性实施例允许高辐射热保护层设置在其整个外表面上，包括外侧表面和烹饪表面。现有技术中众所周知的不粘层或其他层可设置在烹饪表面上。热保护层可设置在烹饪表面与不粘层或其他层之间。本设计涵盖一种用于制作食品的过程和由此制作的食品。所述用于制作食品的过程与炉内的衬底表面上没有设置高辐射热层的传统过程相比花费更少的时间，需要更少的能量。在本设计的炉中制作的以及通过本设计的过程制作的食品在相继的批次中更均匀，在炉的不同部分内的食品也更均匀。本设计的一个方面是具有至少一个均匀加热区域或加热区的炉，以均匀地烹饪其中的食品。本设计的替代性实施例可提供多个加热区。具有多个加热区的商用炉的例子包括隧道炉，所述隧道炉直接或间接地燃烧，且提供了食品行进通过的多个区。另一示例可为一些搁架式炉、柜式炉、托盘炉、转炉或披萨炉，它们可提供作为搁物架的分离的加热区，直接加热每个搁物架。本设计的另一方面是提供一种在炉中烹饪的已被制作好的食品，所述炉具有根据本设计的高辐射涂层，所述高辐射涂层设置在炉的内金属表面上，以提供遍布每个加热区域和加热区的一致均匀的加热。通过本设计最终生产的食品在尺寸、形状和烹饪程度方面均更均匀。多个批次也更为均匀。根据本设计的炉比缺少热保护层的其他炉提供了明显更均匀的烹饪环境，这产生基本均匀的烘焙食品。本设计的又一方面是提供一种具有根据本设计的高辐射热保护层的烹饪盘，所述高辐射热保护层设置在本是传统的烹饪盘的外侧上。在这种盘中制作的食品与在传统的盘中制作的食品相比具有明显更均匀的尺寸、形状和烹饪程度。高辐射热保护层用于均匀化温度和热效应，从而增大了本设计的炉内的热量的均匀性。本设计的另一方面是提供一种食品，所述食品的尺寸和形状均匀，这是因为炉内具有均匀的热环境。在这种盘本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.24 US 12/890,3911.一种制作食品的过程，所述过程包括: 提供炉，所述炉具有: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括设置在炉壳体内的金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: 大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂； 提供用于在加热过程中保持混合的配料或准备的面团的烹饪配件； 在烹饪配件中保持所述混合的配料或准备的面团；和 在至少一个加热区中加热烹饪配件，直到制作好食品。2.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。3.如权利要求1所述的过程，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料 ’大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约.5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定 性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约.2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。4.如权利要求1所述的过程，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面；和 所述至少一个衬底包括面板、嵌入件、壁、底部、烹饪配件、盘、片、搁架、门、后壁、元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、输送器、带、辊子和它们的组合。5.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 烹饪配件包括:用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面；和 设置在烹饪配件的表面上的高辐射热保护层。6.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中:烹饪配件从由盘、片、模壳、搁架和它们的组合构成的组中选择。7.如权利要求1所述的制作食品的过程，还包括: 移动烹饪配件，以便于在至少两个加热区中加热。8.如权利要求7所述的制作食品的过程，其中: 烹饪配件设置在带或辊式输送系统上，高辐射热保护层至少部分地设置在所述带或辊式输送系统上。9.如权利要求1所述的制作食品的过程，其中: 高辐射热保护层设置在至少一个被涂覆的面板或被涂覆的嵌入件上；分布在炉内的面板或嵌入件覆盖至少一个壁、底部、顶部或它们的组合。10.一种食品,包括: 由一个过程制作的至少一个食品，所述过程包括: 提供炉，所述炉具有: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: 大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂； 提供用于在加热过程中保持混合的配料或准备的面团的烹饪配件； 在烹饪配件中保持所述混合的配料或准备的面团；和 在至少一个加热区中加热烹饪配件，直到制作好食品。11.如权利要求10所述的食品，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂和分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约100μ )厚；或 它们的组合。12.如权利要求10所述的食品，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的至少一种填料，所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择；和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂，所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择； b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂； c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由娃酸钠、娃酸钾、娃酸I丐、娃酸镁和聚娃酸盐构成的组中选择；大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂；和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合；大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料；大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属 氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射；和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； e.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂； f.大约10%至大约30%的硅酸钠，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂； g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，和大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂；或 h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅，大约50%至大约79%的二氧化硅粉末，大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂，和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。13.如权利要求10所述的食品，其中: 由铁、铝、合金、钢、铸铁、不锈钢或它们的组合构成的金属表面形成设置在炉内的至少一个衬底表面；和 所述至少一个衬底包括面板、嵌入件、壁、底部、烹饪配件、盘、片、搁架、门、后壁、元件、燃烧器、燃烧器屏蔽件、输送器、带、辊子和它们的组合。14.如权利要求10所述的食品，其中: 烹饪配件包括:用于与食物接触的烹饪表面； 与烹饪表面相反的外侧表面；和 设置在烹饪配件的外侧表面上的高辐射热保护层。15.如权利要求10所述的食品，其中: 烹饪配件从由盘、片、模壳、搁架和它们的组合构成的组中选择。16.如权利要求10所述的食品,还包括: 移动烹饪配件，以便于在至少两个加热区中加热。17.如 权利要求16所述的食品，其中: 烹饪配件设置在带或辊式输送系统上，热保护层至少部分地设置在所述带或辊式输送系统上。18.如权利要求10所述的食品，其中: 高辐射热保护层设置在至少一个被涂覆的面板或嵌入件上；分布在炉内的面板或嵌入件覆盖至少一个壁、底部、顶部或它们的组合。19.一种炉，包括: 壳体，其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口，所述开口借以形成至少一个内部加热区，以在加热区中接收炉烹饪配件； 用于向加热区提供热量的加热装置； 设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层，其中， 衬底表面包括金属或陶瓷表面；和 所述高辐射热保护层包括: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂；或者 b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合，大约23%至大约79%的至少一种填料，以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂。20.如权利要求19所述的炉，其中: 热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂； 热保护层还包括表面活性剂或分散剂； 热保护层还包括着色剂； 无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属/碱土金属娃酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择； 填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择； 所述一种或多种 辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钥、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择；或它们的组合； 稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择； 热保护层为大约I密耳(大约25微米(μ ))至大约4密耳(大约ΙΟΟμ )厚；或 它们的组合。21.如权利要求19所述的炉，其中: 热保护层包含: a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属娃酸盐构成的组中选择，所述碱金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·W·奥尔弗，P·J·多梅尼库奇，J·埃梅里，
申请(专利权)人：埃米希尔德股份有限公司，AMF自动化技术有限责任公司，
类型：
国别省市：