一种多晶硅的铸锭方法技术

技术编号:8956685 阅读:144 留言:0更新日期:2013-07-25 01:40
本发明专利技术公开了一种多晶硅的铸锭方法,涉及硅的生长制造技术领域。所述方法包括以下步骤:碎硅片准备→硅片准备→坩埚装料→控制加热条件,使坩埚上面硅料熔化→控制碎硅片部分熔化→长晶阶段→退火阶段→冷却阶段。所述方法使用碎硅片生产硅锭,大大降低了生产成本;因使用碎硅片作为晶体生长的籽晶,可以生长得到具有结构均匀的小晶粒硅锭,晶粒之间的大小不会出线较大的差异,不会导致电池PECVD镀膜出现较大的色差,继而不会影响到后续太阳能电池组件的制造,提高了太阳能电池组件的转换效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种硅的生长制造
,尤其涉及一种多晶硅的生长方法。
技术介绍
在快速发展的光伏产业中,高效率及低成本一直是企业的竞争点,对于目前市场不景气的太阳能行业,高效率和低成本更是成为企业是否能够生存的标杆。目前多晶硅主要采用定向凝固方法制得,一般容易出现的问题是,坩埚底部冷却后会出现大量形核点,很难得到较大的晶粒,所以在铸锭多晶中往往含有大量晶界及缺陷,且由于各个晶粒晶向不一,使得制得的多晶硅太阳能电池的转化效率较低。在现有技术中,太阳能行业还兴起一种多晶炉铸准单晶的制造方法。如专利号为201010198142.5的一种准单晶硅的铸锭方法。该专利先通过在石英坩埚底部铺设籽晶,再从籽晶上面铺设硅料和掺杂剂。等籽晶熔化到一段时停止加热,开始冷却。液体的硅料会沿着底部籽晶的晶向开始生长。一般得到硅块的中间的晶粒比较大,成为纯度较高的单晶硅块,但是周围一圈的硅块还是呈现多晶,效率较低。对于周围的硅块,由于晶粒大小存在较大的差异,致使电池PECVD (等离子体增强化学气相沉积法)镀膜出现较大色差,对于后面组件的制作也带来很大的麻烦。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多晶硅的铸锭方法,其特征在于包括以下步骤:(1)选取经过清洗后的硅片和碎硅片,将上述硅片水平铺设在坩埚的底部,保证硅片之间没有间隙,在坩埚底部四周铺设经过清洗后的边皮料,将碎硅片铺设到硅片上,然后在碎硅片上添加掺杂剂和原硅料、回收硅料;(2)将放置有上述硅料的坩埚放置于铸锭炉内进行抽真空并加热,此步分为两个阶段,第一阶段为功率加热控制,进行分段升温;第二阶段为融化控制,采用温度加热,使铸锭炉上部的硅料融化;等上部的硅料开始溶化后,使用玻璃棒持续对坩埚中的液面进行测量,保证位于坩埚底部的碎硅片部分熔化,然后进入长晶阶段;(3)在长晶阶段,此时通过控制铸锭炉内的温度并将隔热笼慢慢提升,使得坩埚...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:任军海曹丽姜超
申请(专利权)人:衡水英利新能源有限公司
类型:发明
国别省市:

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