银的保护性涂敷制造技术

本发明专利技术为银的保护性涂敷。在本方法中，使用原子层沉积方法来保护银不失泽。在原子层沉积方法中，通过沉积连续的涂层材料分子层在银的表面上形成5薄膜涂层。例如，可以使用氧化铝(Al2O3)或氧化锆作为涂层材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种涂敷银产品的方法，更具体地，涉及一种用于保护银产品、物品或零件不失泽的涂敷银的方法。
技术介绍
银在大气中特别是在存在硫的情况下自然失泽。工业气氛和自然消化过程是银失泽的重要起因。当银失泽时，在银的表面上形成硫化物、氧化物或碳酸盐。例如，对于使用物品、珠宝和礼品工业以及对于银产品的最终用户来说，银和银器的失泽是一个问题。由于形成黑色或深灰色的层或斑点，因此失泽使产品的外观劣化。可以将所述层或斑点除去，但这通常是费力的过程，并且该过程会对产品外观产生不良影响。并且，在技术性应用中，银的失泽降低银和银产品及零件的光学性能，例如反射率。用于预先防止失泽的方法在现有技术中是已知的。一种用于防止失泽的现有方法包括使用设计为具有抗氧化性并涉及将诸如硅或锗的特殊添加剂与银混合的银合金。另一种用于防止失泽的现有方法包括用铑涂敷纯银。与上述使用银合金的配置相关的问题之一是所述方法需要在制造中小心地控制所有的因素，例如使用极纯的新金属和在熔融和退火过程中精确地控制温度。结果，制造工艺和实施该工艺的设备的建立非常昂贵。在用铑涂敷银的方法中成本也是非常高的。此外，铑涂层具有蓝-白色泽，因本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于保护银产品、物品或零件不失泽的方法，其特征在于，通过使用ALD(原子层沉积)方法在银产品、物品或零件的至少部分表面上施用厚度为1nm～100nm的薄的保护材料涂层。

【技术特征摘要】
2006.02.02 FI 200650821.一种用于保护银产品、物品或零件不失泽的方法，其特征在于，通过使用ALD(原子层沉积)方法在银产品、物品或零件的至少部分表面上施用厚度为Inm IOOnm的薄的保护材料涂层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于施用厚度为2 20nm的薄涂层。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于施用厚度为40nm 90nm的薄涂层。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于通过利用ALD(原子层沉积)方法提供至少一个金属氧化物的层来施用所述薄涂层。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于金属氧化物包括选自氧化铝Al2O3、氧化钛TiO2、氧化铬Cr2O3、氧化锆ZrO2、氧化 铟In2O3、氧化铌Nb2O5的金属氧化物。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述保护膜是基本透明的非氧化物材料。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于通过利用ALD(原子层沉积)方法在银产品、...

【专利技术属性】
技术研发人员：米利娅·梅凯莱，佩卡·索伊尼宁，萨米·斯内克，
申请(专利权)人：BENEQ有限公司，
类型：发明
国别省市：