一种镍离子催化合成铜纳米线的方法技术

一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，涉及一种金属纳米线制备方法。将含镍的前驱盐和含氯的铜前驱盐溶解于含有胺基的有机溶剂中，得到混合溶液；将混合溶液通入惰性气体，加热后保温，排去水和氧气后，继续加热后再保温，然后降温；将得到的溶液通过离心处理，倒去母液，清洗后干燥，即得铜纳米线。或将含镍的前驱盐和含氯的铜前驱盐溶解于含有胺基的有机溶剂中，得到混合溶液；将混合溶液通入惰性气体，加热后保温，排去水和氧气后，继续加热后再保温，等待反应一段时间后，再缓慢升温至更高温度并保温；将得到的溶液施加一个外加磁场，将产物吸住，然后倒去母液，得到由铜镍合金包裹的表面残留有机物的铜纳米线，清洗干燥后即得铜纳米线。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种金属纳米线制备方法，尤其是涉及。
技术介绍
透明电极广泛应用于平板显示、触摸屏、OLED、LED、智能窗以及太阳能电池等设备的导电层中。传统的透明电极材料一般采用ITO、AZO等，这些电极材料往往由于制作工艺复杂，条件苛刻而导致价格昂贵。随着电子技术的发展，对透明导电电极的需求将与日俱增。并且，由于人们对器件的柔性特性提出了一定要求，使得研究者们逐渐开始探究一些新材料，例如碳纳米管、石墨烯等。但由于这些材料做成的透明导电薄膜一般存在较高的方阻和透光率比，因此还不适用于大多数实际应用场合。近期，人们发现Ag纳米线通过压印法形成的透明导电薄膜具有优异的性能，可以和ITO相比拟。铜是一种比银廉价很多的金属，同时又具有较好的导电性，因此，制备铜纳米线并将其应用于透明导电薄膜中具有重大的意义。目前，制备金属纳米线的方法主要有电纺丝法、电化学沉积法和化学液相法。静电纺丝法在制作铜纳米线的过程一般需要较高的煅烧温度和氢气还原，而电化学沉积法往往产量低，而且需要复杂的脱除模板过程。化学液相法具有合成条件温和、产量大的特点。但目前国际上关于铜纳米线的化学液相法制备方法鲜有报道，现已本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，其特征在于包括以下步骤：1）将含镍的前驱盐和含氯的铜前驱盐溶解于含有胺基的有机溶剂中，得到混合溶液；2）将混合溶液通入惰性气体，加热后保温，排去水和氧气后，继续加热后再保温，然后降温；3）将步骤2）得到的溶液通过离心处理，倒去母液，清洗后干燥，即得铜纳米线。

【技术特征摘要】
1.一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，其特征在于包括以下步骤: 1)将含镍的前驱盐和含氯的铜前驱盐溶解于含有胺基的有机溶剂中，得到混合溶液； 2)将混合溶液通入惰性气体，加热后保温，排去水和氧气后，继续加热后再保温，然后降温； 3)将步骤2)得到的溶液通过离心处理，倒去母液，清洗后干燥，即得铜纳米线。2.如权利要求1所述的一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，其特征在于在步骤I)中，所述含镍的前驱盐为乙酰丙酮镍、乙酸镍、硝酸镍、甲酸镍、硬脂酸镍中的一种；所述含氯的铜前驱盐为氯化铜；所述胺基的有机溶剂为十八胺、十八稀胺、十二胺、十六胺、三辛胺中的至少一种。3.如权利要求1所述的一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，其特征在于在步骤I)中，所述混合溶液中的铜离子与镍离子的摩尔比为1:1 5:1。4.如权利要求1所述的一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，其特征在于在步骤2)中，所述惰性气体采用氩气；所述加热的温度为70 110°C，保温的时间至少IOmin ;所述继续加热的温度为至165 200°C，再保温的时间为至少2h ;所述降温降至40 80°C。5.如权利要求1所述的一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，其特征在于在步骤3)中，所述清洗采用有机清洗剂清洗，所述有机清洗剂选自正己烷与丙酮的混合溶液，或甲苯与丙酮的混合溶液，或环己烷与丙酮的混合溶液，或正己烷与乙醇的混合溶液；所述干燥采用真空干燥，干燥的时间至少30min。6.如权利要求1所述的一种镍离子催化合成铜纳米线的方法，其特征在于在步骤3)中，所述母液回用， 回用的具体方法为:在母液中加入Cu (NO3)2.3H20，再通入氩气，加热后保温，排去水和氧气；继续加热后再保温；停止加...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭栋梁，郭惠章，王来森，陈远志，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：