The invention discloses a high efficient industrial production of Potato Virus-free technology of plantlets, which comprises the following steps: (1) material culture, (2) material disinfection (3) induced buds (4), following the generation of value-added training, (5) virus detection, rooting culture, (6) (7 seedling, transplanting). According to the principle that the number of the growth points of the virus at the top of the plant is far less than that of the mature part of the lower part of the plant, the algebra of the growth point is increased to achieve the purpose of detoxification. The invention adopts the method of dark culture medium and three days of basic training of low concentration of hormone, improved MS, greatly reducing the removal of the mutant virus seedling rate, accelerate seedling growth rate, shorten the breeding cycle, the propagation speed is high, the production cost is low.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于农业生物
,具体涉及。
技术介绍
番薯(Ipomoea batatas Lam.)是一种重要的粮食、饲料和工业原料作物,具有产量高、营养丰富、稳产性好等优点。然而,由于番薯病毒病的广泛存在,以及生产中番薯以薯块进行无性繁殖,造成病毒病的蔓延,从而造成番薯产量降低、品质下降、种性退化。目前科研上主要通过茎尖 离体培养获得脱毒种苗,但此方法运用于产业化大批量生产,扩繁速度慢,变异率高,生产成本高。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供了一种方法简单、成本低、变异率低、扩繁速度快、缩短了繁殖周期的高效产业化生产番薯脱毒组培苗的方法。为了实现上述目的,本专利技术的技术方案为:提供,包括以下步骤:(I)材料培养从大田取回待脱毒番薯的20 30 cm长的茎段,扦插在大棚苗床上,让其生长新枝;过程中,每星期浇一次营养液,每5天用50%多菌灵或百菌清500倍喷叶及周围环境,每天晚上用75%酒精喷一次周围环境,以保棚内环境清洁;待新长出的枝长到8 10 cm时,剪下新枝,重新扦插到新的培养基上,用同样的方法让它长出新枝;(2)材料消毒待二次扦插苗的新枝长到8 Cm以上时,取两三节长的茎段,剪下后放入消毒过的密封玻璃瓶中密封,拿到超净工作台,用75%酒精浸19 20秒,再用0.1%升汞消毒5 7分钟,最后用无菌水冲洗4 5次;(3)外植体芽诱导切取I Cm消毒过的外植体的腋节位接种到外植体芽诱导培养基,接种后进行三天时间的暗培养,温度设28±2°C,在光周期16小时以上,光强2000LX以上;(4)继代增值培养外植体培养25天,薯苗长至3 Cm 6 Cm时, ...
【技术保护点】
一种高效产业化生产番薯脱毒组培苗的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)材料培养从大田取回待脱毒番薯的20~30㎝长的茎段,扦插在大棚苗床上,让其生长新枝;过程中,每星期浇一次营养液,每5天用50%多菌灵或百菌清500倍喷叶及周围环境,每天晚上用75%酒精喷一次周围环境,以保棚内环境清洁;待新长出的枝长到8~10㎝时,剪下新枝,重新扦插到新的培养基上,用同样的方法让它长出新枝;(2)材料消毒待二次扦插苗的新枝长到8㎝以上时,取两三节长的茎段,剪下后放入消毒过的密封玻璃瓶中密封,拿到超净工作台,用75%酒精浸19~20秒,再用0.1%升汞消毒5~7分钟,最后用无菌水冲洗4~5次;(3)外植体芽诱导切取1㎝消毒过的外植体的腋节位接种到外植体芽诱导培养基,接种后进行三天时间的暗培养,温度设28±2℃,在光周期16小时以上,光强2000LX以上;(4)继代增值培养外植体培养25天,薯苗长至3㎝~6㎝时,取每株生长点2~4mm单独培养于继代增殖培养基,剩余茎段单节培养于继代增殖培养基,接种后进行三天暗培养,温度设28±2℃,在光周期16小时以上,光强2000LX以上;三天后便可生根,下代再取生长点 ...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:朱红林,王效宁,刘迪,孟卫东,齐兰,
申请(专利权)人:海南省农业科学院粮食作物研究所,
类型:发明
国别省市:
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