一种大气等离子喷涂技术制备非晶Y3Al5O12涂层的方法技术

本发明专利技术公开一种大气等离子体喷涂技术制备非晶Y3Al5O12涂层的方法，属于等离子喷涂技术领域。所述方法，包括如下步骤：步骤(1)，将Al2O3粉末和Y2O3粉末均匀混合，造粒得到Y3Al5O12粉末；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过大气等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出非晶Y3Al5O12涂层。本发明专利技术使用大气等离子喷涂方法来制备非晶Y3Al5O12耐侵蚀陶瓷涂层，通过调节喷涂参数，获取优化的工艺条件进行喷涂，从而得到性能良好的非晶Y3Al5O12涂层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子喷涂
，具体涉及一种大气等离子体喷涂技术制备非晶Y3Al5O12涂层的方法。
技术介绍
目前，低温等离子体微细加工方法是材料微纳加工的关键技术，它是微电子、光电子、微机械、微光学等制备技术的基础，特别是在超大规模集成电路制造工艺中，有近三分之一的工序是借助于等离子体加工完成的，如等离子体薄膜沉积、等离子体刻蚀及等离子体去胶等。其中等离子体刻蚀为最关键的工艺流程之一，是实现超大规模集成电路生产中的微细图形高保真地从光刻模板转移到硅片上的不可替代的工艺。在刻蚀工艺过程中，刻蚀气体(主要是F基和Cl基的气体)通过气体流量控制系统通入反应腔室，在高频电场(频率通常为13.56MHz)作用下产生辉光放电，使气体分子或原子发生电离，形成等离子体。在等离子体中，包含由正离子、负离子、游离基和自由电子。游离基在化学上很活波、它与被刻蚀的材料发生化学反应，生成能够由气流带走的挥发性化合物，从而实现化学刻蚀。但同时在刻蚀过程中产生的大量F和Cl自由基对刻蚀工艺腔的内表面也会产生腐蚀作用，影响刻蚀效果。早期的90年代的刻蚀设备中，在较小功率和单一等离子体发生源的情况下，使用阳极本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大气等离子体喷涂技术制备非晶Y3Al5O12涂层的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤(1)，将Al2O3粉末和Y2O3粉末均匀混合，造粒得到Y3Al5O12粉末，并将所述Y3Al5O12粉末送入大气等离子体喷涂设备；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过所述大气等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出非晶Y3Al5O12涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王文东，黄春，闫坤坤，夏洋，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：