提供一种实现装置小型化且生产率高、成本低的真空处理装置。传送长的带状基材S使其通过真空处理室（1），在该真空处理室（1）内对带状基材实施规定处理。在真空处理室（1）中设置单个的处理单元（3），设置有送出辊（6）和卷取辊（7）的真空辅助室（2）与真空处理室（1）相连设置。在真空处理室内跨处理单元的两侧上具有一对第一辊单元（4），每个第一辊单元具有等间隔配置的多个辊（42），将各辊在轴向上彼此错开配置，带状基材以螺旋状缠绕在两辊单元的各辊上。还具有移位装置（5），以与处理单元相对的带状基材的一面为表面，当带状基材的里面与处理单元相对时所述移位装置（5）将该带状基材的一部分以规定幅度向该处理单元侧移动。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本发 明涉及一种真空处理装置，其传送长的带状基材使其通过真空处理室，在该真空处理室中对该带状基材实施规定的处理。
技术介绍
由于长条状树脂制成的带状基材具有弹性，也具有良好的加工性，所以一般公知的是在其表面形成规定的金属膜或氧化物膜等规定薄膜，或进行热处理或等离子体处理来制成电子部件或光学部件。根据用途，有时对带状基材的表里两面施加相同的规定处理。作为这样的对带状基材的表里两面实施规定处理的装置，已知的一种处理装置设置有彼此相连的第一处理室和第二处理室，所述第一处理室在具有送出辊、卷取辊以及送出并传送带状基材的传送装置的传送室内具有对带状基材的单面(表面)进行规定处理，所述第二处理室具有对单面已进行了处理的带状基材的另一面(里面)实施与前述相同处理的另一处理装置(例如参照专利文献I)。然而，在上述的以已知例子中，为了在单独的处理室中对带状基材的表里两面进行处理，不仅会使装置本身变得大型化，而且会使部件数量增加，导致成本上升。而且，使从送出辊送出的带状基材通过两个真空处理室后直到卷到卷取辊上的路径太长，生产率也差。现有技术文献专利文献专利文献1:专利公开2009 - 13473号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题鉴于以上内容，本专利技术的问题是提供一种旨在使装置小型化且具有良好生产率的低成本的真空处理装置。解决技术问题的手段为解决上述技术问题，本专利技术提供一种真空处理装置，所述真空处理装置传送长的带状基材，使其通过真空处理室，在该真空处理室内对带状基材进行规定处理，其特征在于:在真空处理室上设置有单一的处理单元，并且设置有与真空处理室相连的真空辅助室，所述真空辅助室至少设置有送出辊和卷取辊中的一个，所述真空处理装置，在真空处理室内在跨处理单元的两侧上具有一对第一辊单元，每个第一辊单元分别具有等间隔配置的多个辊，使第一辊单元的各辊在轴向上彼此错开配置，带状基材以螺旋状缠绕在各辊上，还具有移位装置，以带状基材从第一辊单元的一侧各辊到另一侧各辊的与处理单元相对的一面为表面，在带状基材的里面与处理单元相对时，所述移位装置使该带状基材的一部分以规定幅度向所述处理单元侧移位。采用本专利技术，通过一对辊单元在处理单元的前方巡回传送带状基材，以使带状基材的表面及里面相对于该处理单元交替相对，并且由于通过移位装置使带状基板的一部分移位，以使例如从处理单元到带状基材的表面或里面之间的距离大致相同，所以，以单一的处理单元可高效地对带状基材的表里实施相同的处理。所以，不像上述以往例子那样需要多个处理室，可实现装置的小型化，且可减少部件数量实现低成本化。而且，如果使带状基材的表里两面多次与处理单元相对的话，则可提高带材的传送速度，也提高生产率。在本专利技术中，所述移位装置是配置在所述一对第一辊单元的内侧、处理单元的两侧上的另一对第二辊单元，第二辊单元优选配置为其使向所述处理单元侧移位的那部分带状基材和从所述第一辊单元一侧的各辊到另一侧的各辊的那部分带状基材到所述处理单元的距离相等。由此，通过简单的构成，可将从处理单元到带状基材的表面或里面的距离统一为大致相同。另外，在本专利技术中，同样地，除从处理单元到带状基材的表面或里面的距离严格设置为一致的情况外，还包含在例如以处理单元作为溅射成膜用的阴极单元，在带状基材的表面或里面上同时进行成膜处理时，第二辊单元接近或离开阴极单元以便以相同厚度成膜的情况。再有，在本专利技术中，如果构成为根据权利要求1或2所述的真空处理装置，在处理单元是溅射成膜用的阴极单元的装置中，将所述阴极单元设置在划出真空处理室的壁面上，并且设置单一的真空辅助室，其连接于与该壁面相对的另一壁面，在该真空辅助室内配置送出辊和卷取辊，则可将真空处理装置进一步小型化。再有，例如在将带状基材加热到规定温度的状态下进行成膜处理后，如用卷取辊卷取刚处理完的带状基材，则有可能出现带状基材的处理面变质等问题。为此，例如将处理后的带状基材冷却到规定温度以下再卷取到卷取辊上。此时，也可考虑通过冷却导引辊或卷取辊的旋转轴以通过热交换冷却带状基材，但这样会使装置结构变复杂。为此，如果在所述卷取辊的上游侧与带状基材相对设置冷却板的话，则该冷却板的与带状基材相对的面发挥吸 热面的作用，可有效地冷却带状基材。而且，冷却板是例如保持在极低温(数十K)的低温板时，通过使该板吸附真空辅助室内的水分等，有助于保持真空辅助室的高真空度，例如可使用排气能力低、成本低的装置作为设置在真空辅助室内的泵等，是有利的。附图说明图1示出本专利技术的第一实施方式的真空处理装置的剖面示意图。图2说明带状基材在真空处理室内的传送的局部放大立体图。图3示出第二实施方式的真空处理装置的剖面示意图。具体实施例方式下面参照附图，以溅镀成膜用阴极单元作为处理单元，在带状基材的表里两面成膜的情况为例对本专利技术的实施方式的真空处理装置进行说明。参照图1及图2，SM是本实施方式的真空处理装置。该真空处理装置SM具有长方体形的真空处理室1，其以图外的真空泵抽真空，以及真空辅助室2，其设置为与该真空处理室I的一侧面相连，可从真空辅助室2传送带状基材S使其通过真空处理室1，并在该真空处理室I内在带状基材S上进行成膜。在真空处理室I内，在与真空辅助室2相对的另一侧面上装设单一的阴极单元3。阴极单元3具有靶31，其根据要在带状基材S的表里两面上形成的薄膜的成分而制作。靶31例如为矩形，如后文所述制成宽度大于在靶31的前方巡回传送的带状基材S的整个宽度(参照图2)，以与垫板32连接的状态设置在真空处理室I内。另外，由于阴极单元3自身可以使用具有公知结构的装置，所以此处省去对其的详细说明。再有，图1中，33a、33b是防尘板，34是卡单元的外罩、35是阳极环。在真空处理室I内，在靶31的长度方向(图1中为上下方向)跨靶31的两侧上设置一对辊单元4u、4d。以这些辊单元为第一辊单元4u、4d，各个第一辊单元4u、4d具有相同的结构，由第一轴体41以及四个第一辊42构成，所述四个第一辊42以等间隔可旋转地外装在该第一轴体41上。各个第一轴体41与未使用时的靶31的溅射面31a分别平行，且设置成与靶31的溅射面31a距离规定的间隔(溅射面31a和两轴体41的间隔相同)。再有，一侧和另一侧的第一轴体41设置为各个第一辊42在轴向上彼此错开。另外第一辊单元4u、4d的结构并不受上述内容限定，再有，第一辊42的数量也考虑带状基材S的宽度或成膜速度而适当设定。再有，在真空处理室I内，在第一辊单元4u、4d的内侧在靶31的长度方向(图1中为上下方向)上跨靶31的两侧上设置有另一对辊单元5u、5d，这一对辊单元5u、5d构成本实施方式的移位装置，使带状基材S的一部分以规定幅度移位到处理单元侧。以第二辊单元5u、5d作为移位装置即辊单元，各个第二辊单元5u、5d具有相同的结构，由第二轴体51和四个第二辊52构成，所述四个第二辊52以等间隔可旋转地外装在该第二轴体51上。第二辊52的直径设置得小于第一辊42的直径。一侧和另一侧的第二轴体51分别与第一轴体41平行，各第二辊52位于各第一辊42之间，且各个第二辊52在轴向上彼此错开，并且，配置为比第一轴体41更偏心向阴极单元3侧。此时，溅射面31a与两第二轴体51的间隔也相同。另外，第二辊本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：广野贵启，多田勋，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：
国别省市：
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