【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种具有应力释放层的绿光LED外延结构,特别是指一种具有应力释放层的绿光LED外延结构及制作方法。
技术介绍
以III族氮化物为材料的白光LEDs正以前所未有的速度高速发展。白光LEDs具有更高亮度、低能耗、寿命长、响应快、无辐射等优点。针对当前能源短缺已成为我国经济可持续发展的制约因素,采用白光LEDs的半导体照明可以减少50%照明用电量,同时还能够减少环境污染,因而在一定程度上减少废气对全球气候变化的影响,改善我们的居住环境。较高的发光效率使得白光LEDs成为一种非常有前途的通用照明方案。然而,若要真正节约能源和降低照明费用,还需要进一 步的提高半导体照明的性能。目前,采用LEDs实现白光照明的方式主要有三种,其中蓝光LED+YAG荧光粉是目前产业的主流技术。但采用该方式获得的白光的光强分布具有方向性,并且色温随工作电流及结温的变大有较大的变化。其次是采用绿光LEDs激发RGB荧光粉的方式实现白光照明,但由于目前绿光LEDs的效率极其低下,采用该方式实现白光照明仍有很大的阻力。最后是采用RGB三色LED通过不同的配比来实现不同色温及显色指数的白 ...
【技术保护点】
一种具有应力释放层的绿光LED外延结构,包括:一衬底;一成核层,其制作在衬底上;一缓冲层,其制作在成核层上;一n型接触层,其制作在缓冲层上;一多量子阱有源区,其制作在n型接触层上面的一侧,另一侧形成一台面;一应力释放层,其制作在多量子阱有源区上;一电子阻挡层,其制作在应力释放层上;一p型层,其制作在电子阻挡层上;一正电极,其制作在p型层上;一负电极,其制作在接触层一侧的台面上。
【技术特征摘要】
1.一种具有应力释放层的绿光LED外延结构,包括: 一衬底; 一成核层,其制作在衬底上; 一缓冲层,其制作在成核层上; 一 η型接触层,其制作在缓冲层上; 一多量子阱有源区,其制作在η型接触层上面的一侧,另一侧形成一台面; 一应力释放层,其制作在多量子阱有源区上; 一电子阻挡层,其制作在应力释放层上; 一 P型层,其制作在电子阻挡层上; 一正电极,其制作在P型层上; 一负电极,其制作在接触层一侧的台面上。2.根据权利要求1所述的具有应力释放层的绿光LED外延结构,其中应力释放层的材料为 AlxInyGa(卜x_y)N,0 < χ < 1,0 < y < 1,厚度为 3-lOnm。3.根据权利要求2所述的具有应力释放层的绿光LED外延结构,其中所述应力释放层的掺杂类型为二茂镁P型掺杂,掺杂浓度为1017-1019cm_3。4.根据权利要求1所述的具有应力释放层的绿光LED外延结构,其中多量子阱有源区的周期数为5-13。5.根据权利要求4所述的具有应力释放层的绿光LED外延结构,其中所述多量子阱有源区每一周期的材料为InzGai_zN/GaN,In的组分为0.17 < z < 0.35,InzGa1J的厚度为1.0-6.0nm, GaN 的厚度为 5.0_20nm。6.一种具有应力释放层的绿光LED外延结构的制作方法,包括如下步骤...
【专利技术属性】
技术研发人员:张宁,刘喆,李晋闽,王军喜,
申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所,
类型:发明
国别省市:
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